열을 정확한 곳에 전달하는 방법: 금 도금된 적외선 램프 스마트 팹을 운영한다면, 웨이퍼 가공 및 CVD 공정을 제대로 수행하는 것이 얼마나 어려운지 잘 알고 있을 것입니다. 이 모든 것은 결국 열과 관련이 있습니다. 하지만 문제는 열이 여기저기 퍼진다는 점입니다....

웨이퍼의 적절한 가열 방법 반도체 청정실에서 일해본 사람이라면 그 어려움을 잘 알 것입니다. 웨이퍼 전체에 고르게 열을 전달해야 하지만, 오염물질로 인해 문제가 생겨서는 안 됩니다. 정말 까다로운 상황이죠. 대부분의 사람들은 알루미늄 반사체를 사용하지만, 문제는 이...

사진감응제를 사용하는 공정에서는 온도 변동을 용납할 수 없습니다. 소프트 베이크나 하드 베이크 과정에서 2°C만큼의 온도 변동이 생기면 웨이퍼 전체에 걸쳐 CD 값에 변동이 생깁니다. 검사원이 이를 발견하기 전에 이미 생산 효율이 떨어집니다. 저희는 반도체 히터용 서...

제조 현장에서는, 굽는 온도가 0.5도만 변해도 포토레지스트의 품질이 좋은 것에서 폐기해야 할 수준으로 변할 수 있습니다. 수율을 보호하려면 열 제어는 별도로 고려할 사항이 아니라, 실제 공정 파라미터로서 반드시 고려되어야 합니다. 중요한 요소들 우리가 개발한 이...

리소그래피 공정에서는 ‘소프트 베이크’와 ‘하드 베이크’라는 두 가지 방식을 통해 치수 제어 및 포토레지스트의 형태를 결정합니다. 가열 영역의 온도가 5°C만 변동해도 에칭 공정의 성능에 악영향을 미칩니다. 이러한 변동성을 없애기 위해 우리는 반도체용 적외선 가열램프...