팹랩용 고온로

Role 공정 현장에서, 포토레지스트 베이크 중 2°C의 온도 변동만으로도 라인폭이 수 나노미터 단위로 변할 수 있다. 건조 과정 중 단일 입자 하나가 다수를 불량으로 만들 수 있다. 이러한 이유로 이 고온 퍼니스가 존재한다. 열 공정 단계에서 변동성을 제거하기 위해...