플렉서블 디스플레이 라인에서 포토레지스트 건조 단계는 단순한 정지가 아니다. 이것은 명확한 제어 지점이다. 열을 너무 빠르게 가하면 용매가 급격히 증발하면서 표면이 굳어 결함이 발생한다. 반대로 너무 오래 유지하면 열 예산이 하부 TFT로 스며들어 라인폭이 변동하고 수율이 저하된다. 램프는 열이 필요한 시간과 위치에 정확히 도달해야 하며 편차가 없어야 한다.
내부에서 중요한 요소
우리는 근적외선(NIR) 가열을 기반으로 건조 램프를 설계했으며, 열장(field)에 대해 서브밀리미터 수준의 제어를 구현했다. 방출기 배열은 매핑 및 보정되어 활성 영역 전반에 걸쳐 온도 균일성이 ±0.1°C 이내로 유지된다. 이는 단순한 홍보 수치가 아니라, 안정적인 용매 증발과 필름 두께의 가장자리부터 가장자리까지의 불균일성을 가르는 차이다. 반복성은 폐쇄 루프 제어에 내장되어 있어, 동일한 베이크 프로파일이 배치별, 교대별로 일관되게 재현된다.
이 공정에서 중요한 이유
플렉스 기판은 고속으로 처리되며, 공정 시간은 매우 제한적이다. Class 1–100 클린룸 환경에서 이 램프는 입자 발생이 전혀 없어 결함 수를 줄이고 불량품 발생을 최소화한다. 소프트 베이크와 하드 베이크 모두 목표 온도에 더 빠르게 도달하여 프로파일을 손상시키지 않으면서 사이클 타임을 단축한다. 또한 NIR은 필름을 직접 가열하기 때문에 공기 가열에 에너지를 낭비하지 않는다. 결과적으로 안정적인 치수 제어, 재작업 감소, 예측 가능한 생산량을 확보할 수 있다.
계획 시 고려사항
이 램프는 표준 팹 인터페이스에 장착 가능하지만, 안정적인 전원 공급과 배기구의 엄격한 열 관리를 필요로 한다. 짧은 시운전을 통해 프로파일을 고정하고 램프 높이를 기판 경로에 맞춰 조정해야 한다. 일단 최적화되면 시스템은 안정적이나, 배기 흐름이 변동하거나 방출기 창이 오염되면 성능이 저하될 수 있다. 광학 부품을 청결하게 유지하면 공정 제어가 유지된다.