高温炉用于制造实验室

在晶圆厂车间，光刻胶烘烤过程中2°C的温度波动足以导致线宽偏移数纳米。干燥过程中出现的单个颗粒可能造成大量良品报废。这就是高温炉存在的原因：消除热处理步骤中的变异性。我们设计它的初衷是应对温度不仅仅是参数，而是整个工艺的场景。 底层关键点 该炉在整个批次中保持晶圆级热均匀性在±0.1°C范围内，确...