Di dalam bilik pembakaran yang canggih ini, perubahan suhu sebanyak setengah darjah saja sudah cukup untuk mengubah kualiti bahan photoresist daripada yang baik menjadi yang tidak boleh digunakan. Jika anda ingin melindungi kualiti produk, kawalan suhu bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan – ia perlu dianggap sebagai parameter proses yang penting.
Apa yang penting dalam sistem ini
Pemanas semikonduktor yang dikawal oleh sistem PID ini direka untuk berfungsi dalam lingkungan suhu yang stabil, sesuai untuk stesen pembakaran litografi. Kestabilan suhu pada permukaan wafer dapat dicapai pada tahap ±0.1°C, dan kebolehulangan proses juga dapat dipastikan dari satu kitaran ke kitaran yang lain. Badan pemanas ini direka untuk digunakan dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100, dengan bahan dan permukaan yang dipilih agar tidak ada penjanaan zarah-zarah yang merosakkan kualiti produk. Pemanas ini direka untuk beroperasi 24/7 tanpa sebarang gangguan, dan kestabilan suhu memastikan bahawa suhu tetap berada dalam julat yang ditetapkan untuk bahan photoresist.
Mengapa ini penting
Proses pembakaran menggunakan kaedah “soft bake” dan “hard bake” sangat penting untuk menentukan dimensi dan profil bahan tersebut. Dengan pemanas ini, ketepatan suhu pembakaran bahan photoresist dapat dipertahankan, sekali gus mengurangkan keperluan untuk melakukan kerja ulang. Ini seterusnya membantu meningkatkan kebolehulangan proses, dan mengurangkan jumlah produk yang rosak. Anda akan mendapat kawalan yang lebih baik terhadap dimensi kritis bahan tersebut, serta mengurangkan variasi suhu yang boleh merosakkan kualiti produk.
Beberapa perkara praktikal
Sistem ini mudah disepadukan, namun tetapan PID perlu disesuaikan dengan jisim ruang pembakaran, aliran udara, dan pola perubahan suhu. Sila berikan maklumat terperinci mengenai proses pembakaran anda – kadar perubahan suhu, masa pemanasan, dan urutan penetapan suhu – supaya parameter kawalan dapat disesuaikan dengan peralatan anda, bukan hanya peralatan kami.
Setelah sistem ini digunakan, pastikan jadual kalibrasi sensor dilakukan secara berkala, bersama-sama dengan kerja penyelenggaraan pencegahan. Dengan cara ini, janji untuk mencapai kestabilan suhu ±0.1°C dapat dipenuhi setiap hari.