Di kawasan litografi, proses pembakaran—sama ada pembakaran lembut atau keras—menentukan kawalan dimensi yang tepat serta bentuk bahan fotoresist. Perubahan suhu sebanyak 5°C di kawasan panas boleh menyebabkan masalah pada lapisan yang diekstrak. Kami telah mencipta lampu pemanas inframerah untuk mengurangkan variasi suhu tersebut.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Ianya merupakan cahaya inframerah gelombang pendek, jadi masa tindak balasnya sangat cepat—kurang dari satu saat. Tenaga yang dihantar ke wafer adalah tepat. Kestabilan suhu di seluruh permukaan wafer adalah dalam lingkungan ±0.1°C, yang memastikan proses pembakaran dapat dilakukan secara konsisten setiap kali. Lampu ini berfungsi dengan baik, tanpa adanya zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer. Ia juga sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100. Dari segi masa operasi, outputnya tetap stabil sepanjang masa; unit ini telah beroperasi lebih dari 5,000 jam tanpa adanya penyimpangan output melebihi 5%.
Mengapa ia sesuai untuk proses sebenar
Ia boleh digunakan terus dalam proses litografi atau di stesen pembakaran yang berdiri sendiri. Ia menggantikan peralatan lama yang menyebabkan perubahan suhu yang tidak diingini, sehingga menimbulkan masalah pada bahan fotoresist. Hasilnya, proses pembakaran menjadi lebih konsisten, dan profil bahan fotoresist tetap terjaga. Respons termal yang cepat juga membantu mengurangkan masa proses, sekaligus meningkatkan kelajuan pengeluaran wafer.
Apa yang perlu dirancang
Pemasangan lampu ini memerlukan sumber kuasa yang stabil, serta sistem penyejukan yang efektif untuk memastikan kestabilan suhu. Walaupun lampu ini tahan lama, selubung kuarza yang digunakan masih memerlukan penjagaan rapi semasa penyelenggaraan. Lakukan penggantian lampu pada waktu yang sesuai, agar proses dapat berjalan lancar dari masa ke masa.