在柔性显示生产线上，光刻胶干燥这一步不仅仅是一个暂停环节，而是一个明确的控制点。加热过快，溶剂会突然挥发形成表皮，导致缺陷；加热时间过长，则热量会渗透到底层薄膜晶体管（TFT），引起线宽漂移，影响良率。灯光必须在恰当的时间和位置精确加热薄膜，不能有任何偏差。 底层关键要素 我们采用近红外（NIR）...

在晶圆厂车间，光刻胶烘烤过程中2°C的温度波动足以导致线宽偏移数纳米。干燥过程中出现的单个颗粒可能造成大量良品报废。这就是高温炉存在的原因：消除热处理步骤中的变异性。我们设计它的初衷是应对温度不仅仅是参数，而是整个工艺的场景。 底层关键点 该炉在整个批次中保持晶圆级热均匀性在±0.1°C范围内，确...