Sưởi ấm bằng tia hồng ngoại so với sử dụng không khí nóng: Hãy ngừng chờ đợi nữa!
Nếu bạn vẫn sử dụng phương pháp sưởi ấm bằng không khí nóng trong quy trình xử lý semiconductors, thì bạn đang lãng phí một nửa thời gian của mình vào việc chờ đợi. Việc chuyển sang sử dụng phương pháp sưởi ấm bằng tia hồng ngoại không có nghĩa là bạn phải mua những thiết bị đắt tiền – mà là để loại bỏ khoảng thời gian chờ đợi đó.
Nguyên lý hoạt động khá đơn giản:
Không khí nóng có tốc độ truyền nhiệt chậm. Bạn cần làm nóng không khí trước, sau đó mới có thể dùng không khí đó để làm nóng wafer. Đây là một quy trình trung gian gây ra sự chậm trễ; bạn sẽ lãng phí vài phút chỉ để chờ cho wafer đạt đến nhiệt độ mong muốn.
Với phương pháp sưởi ấm bằng tia hồng ngoại, điều này không còn xảy ra nữa. Năng lượng được truyền trực tiếp từ bóng đèn sang bề mặt wafer. Thời gian cần thiết để làm nóng wafer giảm xuống còn vài giây thôi. Đó chính là lợi ích lớn của phương pháp này.
Nhưng cũng có vài điểm cần lưu ý:
Khi sử dụng phương pháp sưởi ấm bằng tia hồng ngoại, bạn sẽ phải đối mặt với tình trạng năng lượng tập trung vào một diện tích nhỏ trong thời gian ngắn. Điều này có thể gây ra hiệu ứng sốc nhiệt. Nếu hệ thống kiểm soát nhiệt độ không hoạt động tốt hoặc các cảm biến không chính xác, nhiệt độ có thể vượt quá mức cho phép, khiến wafer bị biến dạng. Bạn cần phải chú ý đặc biệt đến các vùng rìa của wafer.
Ngoài ra, vấn đề về diện tích cũng cần được xem xét. Các hệ thống sưởi ấm bằng không khí nóng thường chiếm nhiều không gian, với nhiều máy thổi khí, ống dẫn khí lớn, và những chiếc hộp cách nhiệt để ngăn nhiệt thoát ra ngoài. Trong khi đó, với hệ thống sưởi ấm bằng tia hồng ngoại, tất cả những yếu tố này đều không còn cần thiết nữa. Diện tích chiếm dụng giảm đi, và chi phí điện tiêu thụ cũng giảm xuống, vì năng lượng chỉ được sử dụng ở những vùng cần thiết mà thôi.
Cuối cùng, đây vẫn là vấn đề về chi phí.
Trong các dây chuyền sản xuất với sản lượng lớn, việc giảm 30 giây cho mỗi wafer sẽ giúp tăng số lượng sản phẩm xuất ra hàng tháng lên hàng nghìn chiếc. Đó chính là lợi ích lớn về mặt chi phí sản xuất mỗi wafer.
Bạn đang từ bỏ phương pháp sưởi ấm chậm, nhẹ nhàng để thay thế bằng phương pháp sưởi ấm nhanh và mạnh mẽ hơn. Tuy nhiên, bạn cần đảm bảo rằng hệ thống làm mát của mình có thể đáp ứng được tốc độ này. Nếu không, các linh kiện của bạn sẽ bị hỏng nhanh hơn so với tốc độ thay thế chúng.