Hãy ngừng chờ đợi nữa: Cách tốt hơn để làm nóng các tấm wafer
Nếu bạn bước vào các nhà máy sản xuất linh kiện bán dẫn, bạn sẽ thấy cùng một cách làm nóng truyền thống: sử dụng không khí nóng để làm nóng các tấm wafer. Về cơ bản, đó chính là một lò nướng kiểu đối lưu khổng lồ. Bạn làm nóng không khí, sau đó không khí ấy lại làm nóng các tấm wafer. Quá trình này diễn ra rất chậm. Thành thật mà nói, đây chính là yếu tố gây cản trở lớn nhất trong toàn bộ quy trình sản xuất. Thời gian chờ đợi cho đến khi nhiệt độ đạt mức mong muốn thực sự là sự lãng phí thời gian.
Bỏ qua bước trung gian
Phương pháp sử dng bức xạ hồng ngoại thì khác. Thay vì sử dụng không khí để truyền nhiệt, bức xạ hồng ngoại truyền năng lượng trực tiếp vào bề mặt tấm wafer. Năng lượng này được hấp thụ ngay lập tức. Quá trình này diễn ra trong vài miligiây, chứ không phải vài phút. Bạn không cần phải sử dụng những máy thổi khí khổng lồ hay hệ thống ống dẫn nữa. Mọi thứ diễn ra rất nhanh chóng.
Không gian sử dụng rộng hơn, ít thiết bị hơn
Khi loại bỏ phương pháp sử dụng không khí nóng, diện tích sử dụng sẽ được mở rộng. Bạn không cần phải sử dụng những lò nướng khổng lồ hay máy thổi khí ồn ào nữa. Hơn nữa, chúng ta có thể sử dụng các thiết bị phát bức xạ hồng ngoại để chiếu nhiệt vào những vùng cụ thể trên tấm wafer. Điều này giúp gia tăng độ chính xác trong quá trình làm nóng. Vì có thể tăng hoặc giảm nhiệt độ nhanh chóng, nên việc chờ đợi sẽ không còn nữa. Tốc độ sản xuất sẽ tăng lên vì bạn có thể xử lý các tấm wafer một cách nhanh chóng.
Nhược điểm (vì luôn có nhược điểm)
Tuy nhiên, phương pháp sử dụng bức xạ hồng ngoại cũng có những nhược điểm. Vì nhiệt độ được truyền trực tiếp, bạn cần phải cẩn thận. Nếu các thiết bị phát bức xạ hồng ngoại không được điều chỉnh đúng cách, bạn sẽ gặp phải những vùng nóng quá mức. Bạn không thể chỉ thay thế thiết bị rồi bỏ mặc mọi thứ. Bạn cần phải xem xét lại vị trí đặt các cảm biến. Và nếu hệ thống làm mát không thể theo kịp tốc độ tăng giảm nhiệt độ, thì tấm wafer sẽ bị biến dạng.
Nhưng đối với những nhà máy muốn rút ngắn thời gian sản xuất, đây chính là giải pháp tốt nhất. Đó chính là sự khác biệt giữa việc làm nóng toàn bộ căn phòng và việc sử dụng ánh sáng để làm nóng. Bạn có thể hoàn thành việc xử lý các tấm wafer nhanh hơn nhiều.