Litografi işlemlerinde, “yumuşak pişirme” ve “sert pişirme” yöntemleri, kritik boyutların kontrolü ve fotorezistanın şeklinin belirlenmesinde önemli rol oynar. Sıcak bölgede 5°C’lik bir değişiklik bile, aşındırma katmanının kalitesini olumsuz etkiler. Bu tür değişkenlikleri ortadan kaldırmak için yarı iletkenler için özel kızılötesi ısıtıcılar geliştirdik.
Teknik açıdan önemli olanlar:
Bu cihaz kısa dalga boylu kızılötesi ışık kullanır; bu sayede tepki hızı çok yüksektir – saniyenin altında. Enerji, doğrudan wafer’a aktarılır. Wafer üzerindeki sıcaklık farkı ±0,1°C civarında tutulur; bu da her seferinde tutarlı bir pişirme işlemi sağlar. Lamba, partikül içermeyen şekilde çalışır ve Class 1–100 temizlik seviyelerine uyumludur. Çalışma süresi açısından ise çıktı sürekli olarak stabil kalır; cihazlar 5.000 saatten fazla çalışabilir ve çıktı sapması %5’in altında kalır.
Gerçek üretim süreçlerinde neden uygundur?
Bu cihaz, doğrudan litografi işlemlerine veya bağımsız pişirme istasyonlarına yerleştirilebilir. Mevcut sistemlerdeki sıcaklık kontrol sorunlarını ortadan kaldırır. Böylece fotorezistanın yapısı korunur ve aşındırma işleminin verimliliği artar. Hızlı termal tepki sayesinde işlem süresi kısalarak, her wafer için gereken enerji miktarı azalır ve üretim hızı artar.
Planlanması gerekenler:
Kurulum için güvenilir bir güç kaynağı ve cihazın düzgün bir şekilde soğutulabilmesi gerekmektedir. Lamba dayanıklıdır, ancak bakım sırasında kuvars kılıfına dikkat edilmesi gerekmektedir. Yedek parça değişimlerini planlı temizlik zamanlarına göre planlayarak beklenmedik duruşları önleyebilirsiniz. Böylece işlem her döngüde kontrol altında kalır.