Pemanasan IR berbanding Udara Panas: Hentikan masa menunggu yang sia-sia untuk wafer anda
Jika anda masih menggunakan kaedah pemanasan udara panas untuk proses pemprosesan semikonduktor, anda sebenarnya menghabiskan separuh hari hanya untuk menunggu. Beralih kepada kaedah pemanasan inframerah (IR) bukan bermakna anda perlu membeli peralatan yang mahal – ia merupakan cara untuk mengurangkan masa menunggu dalam kitaran pemanasan tersebut.
Prinsipnya sangat mudah.
Udara panas memerlukan masa yang lama untuk memanaskan wafer. Udara dipanaskan terlebih dahulu, kemudian udara itu pula memanaskan wafer. Ini merupakan proses yang memerlukan masa yang lama, dan anda akan membuang masa bertambah banyak semata-mata untuk menunggu wafer mencapai suhu yang diinginkan.
Pemanasan IR pula mengelakkan keperluan proses perantaraan ini. Tenaga dipindahkan terus dari lampu ke permukaan wafer. Dengan cara ini, masa yang diperlukan untuk memanaskan wafer dapat dikurangkan daripada minit menjadi beberapa saat sahaja. Ini merupakan cara pemanasan yang cepat.
Namun, ada beberapa cabaran yang perlu dihadapi.
Apabila menggunakan kaedah IR, tenaga yang besar akan sampai ke kawasan kecil dengan cepat. Ini boleh menyebabkan kejutan haba. Jika sistem kawalan suhu tidak berfungsi dengan baik atau sensor tidak sensitif, suhu wafer boleh melebihi had yang ditetapkan, sehingga merosakkan wafer tersebut. Anda perlu sangat berhati-hati, terutamanya pada bahagian tepi wafer.
Selain itu, terdapat juga masalah berkaitan ruang. Sistem pemanasan udara panas memerlukan ruang yang besar, termasuk blower, saluran udara yang besar, dan kotak pengasing haba. Dengan penggunaan lampu IR, semua komponen ini tidak diperlukan lagi. Ruang yang diperlukan untuk mesin pun berkurangan, dan bil elektrik juga berkurangan kerana tenaga tidak digunakan untuk memanaskan udara di seluruh bilik, tetapi hanya di kawasan yang benar-benar memerlukannya.
Pada akhirnya, ini merupakan soal keuntungan. Dalam proses pengeluaran yang berskala besar, pengurangan masa pemprosesan sebanyak 30 saat untuk setiap wafer boleh membawa kepada peningkatan pengeluaran ribuan unit setiap bulan. Ini merupakan keuntungan yang besar bagi kos pengeluaran setiap wafer.
Anda sedang menukar cara pemanasan yang perlahan dan lembut dengan cara yang lebih cepat. Namun, pastikan sistem penyejukan anda mampu mengikuti kelajuan tersebut. Jika tidak, komponen-komponen mesin anda akan rosak lebih cepat daripada yang anda mampu ganti.