ファブ内での二酸化炭素削減：乾燥プロセスについて話しましょう
正直に言えば、半導体製造工場は莫大なエネルギーを消費しています。そのエネルギーの大部分は、ウェーハから水分を取り除くための乾燥処理に使われていますが、その際に熱や汚れによってウェーハが損傷しないように注意が必要です。カーボンニュートラルを実現したいのであれば、古い方法ではいけません。そこで役立つのが赤外線加熱です。
赤外線加熱の実態
従来の対流式乾燥法は、まるで家全体を温めるのに、一皿の食べ物だけを温めようとするようなものです。これは無駄なことです。一方、赤外線加熱は、エネルギーを直接ウェーハの表面に送り込むため、効率的です。
乾燥ラインの点検を行う際には、「スペクトルの一致」を確認します。これはラジオのチューニングに似ています。短波長の赤外線は深部まで届き、中波長の赤外線は表面に留まります。ランプの出力がウェーハが実際に吸収するエネルギーに合致していれば、無駄な熱の投入を防げます。
スペースの節約
高密度の赤外線ランプを使用することで、電力だけでなく、スペースも節約できます。
このシステムは非常に迅速に温度を上昇させます。準備のために何時間も機械を高温状態にしておく必要はありません。また、正確な赤外線制御により、ウェーハ全体の温度を完璧にコントロールできます。もう「安全のために」過度な処理をする必要はありません。
デメリット（無料というものはない）
しかし、高ワット数のランプを使用すると、速さは得られますが、電力供給系統に大きな負担がかかります。電気系統がその急激な負荷に耐えられるかを確認する必要があります。
また、熱も問題です。これらのランプは非常に高温になります。冷却ファンやヒートシンクが十分でない場合、筐体が変形してしまう可能性があります。空気の流れを考慮しなければ、大きなリスクがあります。
結局のところ、私たちが重視するのは「1枚のウェーハあたりの消費エネルギー」です。古いヒーターを最適化された赤外線ランプに置き換えることで、エネルギー消費を大幅に削減できます。これは、生産速度を落とすことなく、環境に優しい方法です。