Riflettore per lampada di essiccazione dei wafer
Nel processo di litografia, una variazione di temperatura di 1°C durante la fase di cottura intensiva non rappresenta certo un “rischio”. È piuttosto...
Riscaldatore per il packaging a livello di wafer
Nella linea FO-WLP, la stabilità del RDL inizia già durante il processo di cottura. Una variazione di temperatura di 1°C durante la cottura del...
Lampada a infrarossi in quarzo per wafer
Sulla linea di produzione, la cottura del fotoresist non è un “nice-to-have”. È un vincolo stringente. Una deriva di 2°C nella zona calda sposta...
Riscaldatore per asciugatura di wafer Micro LED
Su una linea Micro LED, l’asciugatura non è una “pausa” che puoi prendere: è un leva di rendimento che non puoi permetterti di...