FO-WLP 공정에서는, RDL의 안정성이 바이크 과정에서부터 결정됩니다. 포토레지스트를 부드럽게 굳히거나 캡슐화 처리를 할 때 온도가 1°C만 변동해도 선의 굵기가 달라지고, 기공이 생기며, 이미 리소그래피 공정을 통과한 웨이퍼들도 손상될 수 있습니다. 이러한 문제를 해결하기 위해, 우리는 웨이퍼 단위로 열을 조절할 수 있는 히터를 개발했습니다.
이 히터는 석영-할로겐 방출기를 사용하여 짧은 파장의 적외선을 발생시키므로, 설정된 온도에 빠르게 도달하면서도 과열되는 것을 방지합니다. 300mm 크기의 웨이퍼 전체에 걸쳐, 일반적인 부드러운 바이크 온도(90–120°C)나 강력한 바이크 온도(100–150°C)에서도 웨이퍼의 온도 균일성은 ±0.1°C 이내를 유지합니다. 클린룸 등급 1–100에 적합하도록 설계된 이 히터는 316L 스테인리스 재질과 PVDF 절연체를 사용하며, 현장에서 입자 상태를 모니터링함으로써 입자 발생을 최소화합니다. 컨트롤러는 실시간으로 온도를 조절하여, 로트 간 및 날짜별로 ±0.2°C 이내의 반복성을 유지합니다.
FO-WLP 공정에서는 열 관리가 매우 중요합니다. 이 히터는 7×24시간 연속 운전 중에도 규정된 온도를 유지함으로써 열 관리를 원활하게 합니다. 그 결과, 계획되지 않은 정지 시간이 없으며, MTBF는 10,000시간 이상입니다. 그 결과, 재작업이 줄어들고, 치명적인 치수 제어가 가능해지며, 공정 주기도 예측 가능해집니다. 낮은 열용량과 효율적인 방출기 덕분에 에너지 소비도 줄어들어, 온도 정확도를 희생하지 않고도 운영 비용을 낮출 수 있습니다.
설치 시에는 도구 인터페이스가 서로 잘 맞아야 하며, 클린룸의 압력 차이를 유지하기 위해 배기 경로도 제대로 구성되어야 합니다. 히터가 목표 위치로부터 ±1mm 이내에 위치하고, 냉각 경로에 이물질이 없으면 최적의 성능을 얻을 수 있습니다. 설치에는 하루 정도의 시간이 필요하며, 그 후 짧은 테스트를 통해 설정 값을 확정할 수 있습니다.