<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Інфрачервоний on Gentle Home Infrared Warmth</title>
		<link>http://home-ir-warmth.com/uk/tags/%D1%96%D0%BD%D1%84%D1%80%D0%B0%D1%87%D0%B5%D1%80%D0%B2%D0%BE%D0%BD%D0%B8%D0%B9/</link>
		<description>Recent content in Інфрачервоний on Gentle Home Infrared Warmth</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 10 Jun 2026 02:14:56 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://home-ir-warmth.com/uk/tags/%D1%96%D0%BD%D1%84%D1%80%D0%B0%D1%87%D0%B5%D1%80%D0%B2%D0%BE%D0%BD%D0%B8%D0%B9/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Інфрачервоний нагрівальний процес золу видалення</title>
				<link>http://home-ir-warmth.com/uk/posts/ashing-process-heating-infrared/</link>
				<pubDate>Wed, 10 Jun 2026 02:14:56 +0800</pubDate>
				<guid>http://home-ir-warmth.com/uk/posts/ashing-process-heating-infrared/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://home-ir-warmth.com/images/e359da41a435291bc4b653b358552252.png&#34; alt=&#34;Інфрачервоний нагрівальний процес золу видалення&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На лінії 300mm огортання — це не просто «видалення залишків». Це управління чітким тепловим бюджетом. Залишки фоторезисту після зняття плівки можуть залишати сліди на наступному шарі літографії, а якщо нагрівання відбувається нерівномірно, існує ризик теплового пробою, що призведе до втрат виходу продукції. Ми розробили наші модулі інфрачервоного огортання з урахуванням цих особливостей.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що має значення технічно&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Інфрачервоне випромінювання дає швидке контактне подавання енергії, яке масштабується за рівнем поглинання, а не за масовою температурою. Наші короткохвильові інфрачервоні випромінювачі в поєднанні з кварц-оптимізованою тепловою конструкцією утримують однорідність на рівні пластини в межах ±0,1°C по всьому діапазону процесу. Система підтримує цю стабільність на заданих точках, які фактично використовуються для зняття фоторезисту, із повторюваністю, достатньою для збереження контролю критичних розмірів.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Інфрачервона кварцова лампа для пластини</title>
				<link>http://home-ir-warmth.com/uk/posts/infrared-quartz-lamp-for-wafer/</link>
				<pubDate>Tue, 09 Jun 2026 01:27:35 +0800</pubDate>
				<guid>http://home-ir-warmth.com/uk/posts/infrared-quartz-lamp-for-wafer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://home-ir-warmth.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Інфрачервона кварцова лампа для пластини&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На виробничій дільниці запікання фоторезиста не є «приємною опцією». Це жорстке обмеження. Зсув температури на 2°C у гарячій зоні миттєво змінює зсув критичних розмірів, і лінія не допускає тих відхилень, які раніше можна було виправдати. Ми розробили нашу кварцову лампу з інфрачервоним випромінюванням для обробки пластин відповідно до цієї реальності: температура стабільна зміну за зміною, день за днем.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що має значення з технічної точки зору&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Лампа використовує короткохвильове інфрачервоне кварцове випромінювання для безпосереднього нагрівання пластин і носіїв — швидке, пряме з&amp;rsquo;єднання. Вона розроблена для повторюваності: висока термічна однорідність по всій освітленій зоні та стабільна емісивність протягом усього терміну служби лампи. Це важливо, коли тепловий бюджет у кроках запікання літографії (у тому числі soft bake і hard bake) дуже обмежений і неможливо допустити додаткове забруднення частинками. Система комфортно працює в чистих приміщеннях класу 1–100 і вписується у стандартні габарити обладнання для напівпровідників.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
