<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Вафля on Gentle Home Infrared Warmth</title>
		<link>http://home-ir-warmth.com/uk/tags/%D0%B2%D0%B0%D1%84%D0%BB%D1%8F/</link>
		<description>Recent content in Вафля on Gentle Home Infrared Warmth</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 09 Jun 2026 01:27:35 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://home-ir-warmth.com/uk/tags/%D0%B2%D0%B0%D1%84%D0%BB%D1%8F/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Інфрачервона кварцова лампа для пластини</title>
				<link>http://home-ir-warmth.com/uk/posts/infrared-quartz-lamp-for-wafer/</link>
				<pubDate>Tue, 09 Jun 2026 01:27:35 +0800</pubDate>
				<guid>http://home-ir-warmth.com/uk/posts/infrared-quartz-lamp-for-wafer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://home-ir-warmth.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Інфрачервона кварцова лампа для пластини&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На виробничій дільниці запікання фоторезиста не є «приємною опцією». Це жорстке обмеження. Зсув температури на 2°C у гарячій зоні миттєво змінює зсув критичних розмірів, і лінія не допускає тих відхилень, які раніше можна було виправдати. Ми розробили нашу кварцову лампу з інфрачервоним випромінюванням для обробки пластин відповідно до цієї реальності: температура стабільна зміну за зміною, день за днем.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що має значення з технічної точки зору&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Лампа використовує короткохвильове інфрачервоне кварцове випромінювання для безпосереднього нагрівання пластин і носіїв — швидке, пряме з&amp;rsquo;єднання. Вона розроблена для повторюваності: висока термічна однорідність по всій освітленій зоні та стабільна емісивність протягом усього терміну служби лампи. Це важливо, коли тепловий бюджет у кроках запікання літографії (у тому числі soft bake і hard bake) дуже обмежений і неможливо допустити додаткове забруднення частинками. Система комфортно працює в чистих приміщеннях класу 1–100 і вписується у стандартні габарити обладнання для напівпровідників.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Сушильний нагрівач для кремнієвих пластин Micro LED</title>
				<link>http://home-ir-warmth.com/uk/posts/micro-led-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 06 Jun 2026 01:40:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://home-ir-warmth.com/uk/posts/micro-led-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://home-ir-warmth.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Сушильний нагрівач для кремнієвих пластин Micro LED&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На лінії Micro LED сушіння — це не «перерва», яку можна взяти, а важіль виходу продукції, який не можна допускати до неправильного керування. Коливання температури під час софтбеку фотополімеру або сушіння після очищення зсунуть ширину лінії від заданої величини, залишать післясмак у вигляді залишків і підвищать кількість частинок. Якщо нагрівач виходить із ладу, це відбивається на планувальнику — у вигляді браку та переробок.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h2 id=&#34;що-важливо-у-вузлі&#34;&gt;Що важливо у вузлі&lt;/h2&gt;&#xA;&lt;p&gt;Цей нагрівач для сушки пластин побудовано на базі елементів короткохвильового інфрачервоного випромінювання та кварцового ізольованого теплового шляху. Мета — отримати рівномірність по всій пластині, якій можна довіряти, із точністю ±0,1°C. Задане значення швидко виходить на стабільний рівень, та профіль температури повторюється від прогону до прогону, що дозволяє підтримувати температурний режим софтбеку фотополімеру в межах бюджету без перегріву.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
