<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Вафля on Gentle Home Infrared Warmth</title>
		<link>http://home-ir-warmth.com/ru/tags/%D0%B2%D0%B0%D1%84%D0%BB%D1%8F/</link>
		<description>Recent content in Вафля on Gentle Home Infrared Warmth</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 24 Jun 2026 01:30:38 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://home-ir-warmth.com/ru/tags/%D0%B2%D0%B0%D1%84%D0%BB%D1%8F/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Отражатель для лампы для высыхания пластинки</title>
				<link>http://home-ir-warmth.com/ru/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 01:30:38 +0800</pubDate>
				<guid>http://home-ir-warmth.com/ru/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://home-ir-warmth.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Отражатель для лампы для высыхания пластинки&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На этапе литографии отклонение температуры на 1°C во время процесса жарки не является «риском». Это приводит к простою производственной линии. Контроль критических размеров выполняется не в соответствии с требованиями, и партия продукции остается негодной для использования.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Первым фактором, определяющим успешность процесса жарки, является рефлектор в лампе для обработки пластин. Всё дело именно в нем.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Нам нужен контроль, который можно измерить. Мы настраиваем геометрию рефлектора так, чтобы спектр излучения лампы падал на поверхность пластины с точностью до ±0,1°C. Это обеспечивает стабильные условия для процесса жарки.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Инфракрасная кварцевая лампа для пластин</title>
				<link>http://home-ir-warmth.com/ru/posts/infrared-quartz-lamp-for-wafer/</link>
				<pubDate>Tue, 09 Jun 2026 01:27:35 +0800</pubDate>
				<guid>http://home-ir-warmth.com/ru/posts/infrared-quartz-lamp-for-wafer/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://home-ir-warmth.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Инфракрасная кварцевая лампа для пластин&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производственном участке запекание фоторезиста — это не «желательно», а обязательное условие. Отклонение температуры в горячей зоне на 2°C быстро изменит смещение критического размера, и линия не допускает тех отклонений, которые ранее могли быть оправданы. Наш инфракрасный кварцевый светильник для обработки пластин разработан с учётом этой реальности: температура должна оставаться стабильной смену за сменой, день за днём.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что имеет техническое значение&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Светильник использует коротковолновое инфракрасное кварцевое излучение для прямого нагрева пластин и подложек — быстрый и прямой перенос тепла. Конструкция ориентирована на повторяемость: высокая термическая однородность по всей освещаемой зоне и стабильная излучательная способность в течение срока службы лампы. Это важно, когда тепловой бюджет в этапах запекания литографии — как мягкого, так и жёсткого — очень ограничен и нельзя допускать дополнительное загрязнение частицами. Система предназначена для чистых помещений класса 1–100 и вписывается в стандартные габариты оборудования для полупроводников.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Нагреватель для сушки пластин Micro LED</title>
				<link>http://home-ir-warmth.com/ru/posts/micro-led-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 06 Jun 2026 01:40:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://home-ir-warmth.com/ru/posts/micro-led-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://home-ir-warmth.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Нагреватель для сушки пластин Micro LED&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На линии Micro LED сушка — это не «перерыв», который можно взять, а рычаг повышения выхода годной продукции, которым нельзя пренебрегать. Колебания температуры во время предварительной мягкой сушки фоторезиста или сушки после очистки сдвинут ширину линии от целевого значения, оставят остатки и вызовут рост количества частиц. Когда нагреватель сбоит, планировщик платит — в виде брака и переделок.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h2 id=&#34;что-важно-под-капотом&#34;&gt;Что важно под капотом&lt;/h2&gt;&#xA;&lt;p&gt;Данный нагреватель сушки пластин построен на элементах коротковолнового инфракрасного излучения и кварцевом термоизоляционном канале. Цель — равномерность температуры на уровне пластины с допустимыми отклонениями ±0.1°C. Установка заданной температуры происходит быстро, а профиль температурного режима повторяется из цикла в цикл, что позволяет держать термическое воздействие на фоторезист в пределах бюджета без превышений.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
