Forno de alta temperatura para laboratório de fabricação

Tue, 02 Jun 2026 04:11:47 +0800

No chão da fábrica, uma variação de 2°C durante a queima do fotorresiste é suficiente para deslocar a largura da linha em nanômetros. Uma única partícula durante a secagem pode comprometer muitos wafers. Por isso existe esse forno de alta temperatura: para eliminar variabilidades nos passos térmicos. Ele foi desenvolvido para os momentos em que a temperatura não é apenas um parâmetro—é o processo.

O que importa no funcionamento interno

O forno mantém a uniformidade térmica em nível de wafer dentro de ±0,1°C ao longo do lote, garantindo que as propriedades críticas do filme permaneçam repetíveis de lote para lote. A compatibilidade com Cleanroom Classe 1–100 é assegurada por interfaces de câmara seladas e materiais de baixa emissão de gases, mantendo a geração de partículas zerada durante o aquecimento e a estabilização térmica. Os perfis de soft bake e hard bake do fotorresiste operam com estabilidade térmica que mantém o controle rigoroso das dimensões críticas. Para cura de embalagens, são oferecidos rampas rápidas e controladas sem ultrapassagem térmica — evitando quebras no die attach ou delaminação das pilhas. O consumo de energia é gerenciado com isolamento refratário e ciclos otimizados de acionamento do aquecedor, reduzindo o custo por wafer sem comprometer a precisão.

Laboratório on Gentle Home Infrared Warmth

Forno de alta temperatura para laboratório de fabricação

O que importa no funcionamento interno