Verwarmingsproces asken infrarood

Wed, 10 Jun 2026 02:14:55 +0800

Op de 300mm lijn is ashing niet zomaar een “verbranding.” Het gaat om het beheren van een strikte thermische budget. Restanten van photoresist na het strippen kunnen doorwerken naar de volgende lithografielaag, en als de verwarming niet uniform is, loop je het risico op thermische runaway die je rendement zal aantasten. We hebben onze infrarode ashingmodules gebouwd om in die realiteit te functioneren.
Wat technisch belangrijk is
Infrarood biedt je snelle, contactloze energie die schaalt met absorptie, niet met bulktemperatuur. Onze kortgolvige infraroodemitters, gekoppeld aan een quartz-versterkt thermisch ontwerp, behouden een wafer-niveau uniformiteit binnen ±0,1°C over het volledige procesvenster. Het systeem handhaaft die stabiliteit bij de ingestelde waarden die je daadwerkelijk gebruikt voor photoresist strippen, met een herhaalbaarheid die strak genoeg is om de controle van kritische afmetingen intact te houden.
Compatibiliteit met schone ruimten is geen bijzaak. We gebruiken laag-uitgas materialen, afgedichte verbindingen en een deeltjes-gecontroleerd pad zodat het aantal deeltjes binnen de verwachtingen van Klasse 1–100 blijft. Het resultaat zijn voorspelbare stripprofielen, consistente verwijderingspercentages en minimale thermische stress op de onderliggende films.
Waarom het werkt op de werkvloer
In ashing is tijd rendement. Snelle opwarming verkort de cyclustijd, maar alleen als de temperatuurcontrole niet afwijkt. Infraroodverwarming raakt de resist direct, zodat de kamer en de drager koeler blijven en thermische kruistalk vermindert. Dat betekent minder uitschieters, minder afval en een throughput die constant blijft shift na shift.
Het energieverbruik daalt omdat de energie gaat waar het nodig is—op de wafer—en niet in verwarmingsinrichtingen. Betrouwbaarheid draait om uptime: de modules draaien 24/7 met geplande onderhoudsvensters, en de output blijft binnen specificaties over duizenden wafers.
Wat je moet weten
Infrarode ashing is gevoelig voor de afstand tussen emitter en wafer en voor emissiviteitsverschillen over filmstapels. De installatie moet een vaste afstand vergrendelen, en je hebt een calibratierecept nodig dat is afgestemd op je stapel. Verwacht een korte inbedrijfstelling om de ingestelde waarden te bevestigen en de uniformiteit over partijen te controleren.
Eenmaal gekalibreerd is het proces solide—maar behandel het als een gecontroleerde parameter, niet als een standaardoplossing voor iedereen.

Verwarmen on Gentle Home Infrared Warmth

Verwarmingsproces asken infrarood