Genezing on Gentle Home Infrared Warmth

Gecertificeerde infrarood hardendelampfabriek

Sat, 18 Jul 2026 02:18:18 +0800

Stoppen met wachten op de oven: waarom infraroodverhitting beter is dan hete lucht
Veel semiconductiefabrieken maken nog steeds gebruik van hete lucht om materialen te drogen en te verhitten. Het is een ouderwetse manier: er wordt lucht in beweging gebracht, deze wordt verhit, en men hoopt dat de warmte goed in het materiaal doordringt.
Het probleem? Het gaat erg langzaam. In een fabriek met hoge drukken is dit niet alleen storend, maar ook een groot obstakel dat de productie vertraagt.
Wij hebben deze ouderwetse systemen vervangen door gecertificeerde infraroodverhittingslampen. Hierdoor verandert alles.

Reflector voor wafer curinglamp

Wed, 24 Jun 2026 01:30:38 +0800

Op de lithografielijn is een temperatuurschommeling van 1°C tijdens het harde bakproces geen ‘risico’. Het betekent dat het proces wordt gestopt. De controle op de cruciale dimensies valt dan buiten de vereiste specificaties, waardoor de productie stil komt te liggen.

Het eerste wat bepaalt of het thermische proces goed verloopt, is de reflector in de lamp die wordt gebruikt voor het drogen van de wafer. Punt.

Wat je echt nodig hebt, is controle die gemeten kan worden. We stellen de geometrie van de reflector zo in dat het lichtspectrum precies over het oppervlak van de wafer komt te liggen, met een thermische uniformiteit van ±0,1°C. Dit zorgt ervoor dat zowel het zachte als het harde bakproces goed verloopt.

Die attach adhesive curing fab

Fri, 19 Jun 2026 02:49:00 +0800

Op de productiehal weet je hoe het gaat: wanneer één van de benodigde parameters niet binnen de gewenste grenzen valt, moet het hele productieproces worden stopgezet. Thermische schommelingen zorgen niet alleen voor verspilling van materiaal, maar ze beperken ook de mogelijkheden voor verdere verwerkingstappen. Je hebt dus een systeem nodig dat als een constante fungeert, en geen extra variabele die problemen kan veroorzaken.

Wat belangrijk is

Het systeem voor het drogen van de lijmstoffen is ontworpen om een temperatuuruniformiteit van ±0,1°C over het substraat te garanderen. Het systeem is verpakt in een pakket dat geschikt is voor gebruik in een schone ruimte van klasse 1–100. De verwarmingseenheid maakt gebruik van kortegolffrequent infraroodlicht en beschikt over een gesloten lus voor nauwkeurige temperatuurmetingen. Hierdoor wordt de gewenste temperatuur rechtstreeks gemeten op het oppervlak, in plaats van geschat op basis van sensoren in de kamer.