Wafer on Gentle Home Infrared Warmth

Pengesan suhu untuk alat pemprosesan wafer

Sun, 26 Jul 2026 14:25:57 +0800

Hentikan unsur pemanasan daripada merosakkan wafer anda

Jika anda beroperasi dalam bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu bahawa penapis udara hanya dapat melaksanakan separuh daripada tugasnya sahaja. Masalah sebenar ialah unsur pemanasan tersebut. Unsur pemanasan ini boleh menjadi sumber gas berbahaya dan zarah-zarah kecil yang boleh merosakkan wafer pada saat-saat yang paling tidak diinginkan.

Itulah sebabnya kami menggunakan kuarsa sintetik berkualiti tinggi untuk mentol IR kami. Ini dapat mengelakkan zarah-zarah berbahaya daripada menempel pada wafer.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Sat, 25 Jul 2026 03:05:27 +0800

Jangan biarkan satu buah mentol yang rosak merosakkan keseluruhan hasil pengeluaran anda. Dalam proses pengeluaran MEMS yang berskala besar, satu kegagalan sahaja sudah cukup untuk merosakkan seluruh proses pengeluaran tersebut. Jika tiub inframerah pecah, bukan sahaja proses pengeluaran akan terhenti, malah serpihan kaca dan zarah logam akan jatuh ke atas wafer tersebut. Ini merupakan situasi yang sangat buruk. Itulah sebabnya kami reka pemanas inframerah ini sedemikian rupa – agar kegagalan tidak berubah menjadi bencana.

Mengapa tiub-tiub ini pecah?
Lampu berkuasa tinggi menghasilkan haba yang sangat tinggi. Apabila lampu tersebut digunakan untuk proses pengeringan yang cepat, bahagian penutup lampu akan rosak akibat tekanan haba yang tinggi. Selain itu, kehadiran kekotoran kecil dalam kaca atau lonjakan voltan yang tiba-tiba juga boleh menyebabkan lampu tersebut pecah. Dalam kes seperti ini, serpihan kaca akan jatuh ke atas produk tersebut.

Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer

Sat, 18 Jul 2026 02:10:39 +0800

Hentikan Mesin Anda daripada Melecur: Cara Lebih Baik untuk Memanaskan Wafer
Jika anda pernah menggunakan stesen pemanasan inframerah untuk memanaskan wafer semikonduktor, anda pasti tahu betapa sukarnya tugas tersebut. Sebenarnya, yang penting bukanlah untuk memanaskan wafer itu sendiri—itu merupakan perkara yang mudah. Masalah sebenarnya ialah bagaimana untuk mengelakkan mesin yang mahal ini daripada menyerap terlalu banyak haba.

Lampu inframerah biasa akan memancarkan tenaga ke semua arah. Jika dibiarkan begitu saja, dinding dalaman bilik proses akan menjadi terlalu panas. Ini bukan sahaja membahayakan orang yang berada di sekitar mesin tersebut, tetapi juga boleh merosakkan struktur mesin itu sendiri. Ini tentunya bukan situasi yang baik.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Sat, 18 Jul 2026 02:03:15 +0800

Pemanasan menggunakan cahaya inframerah berbanding udara tertekan: Cara mana yang terbaik untuk memanaskan wafer?

Menggantikan kaedah pemanasan menggunakan udara tertekan dengan kaedah pemanasan menggunakan cahaya inframerah bukan sekadar pertukaran komponen sahaja. Ia merupakan perubahan total dalam cara tenaga diberikan kepada permukaan wafer tersebut.

Bayangkan penggunaan udara tertekan. Anda bergantung pada proses konveksi, di mana udara perlu melakukan kerja keras untuk memanaskan permukaan wafer. Kaedah ini memang berkesan, tetapi ia lambat. Sebaliknya, cahaya inframerah menggunakan tenaga radiasi untuk memanaskan wafer secara langsung.

Pemantul untuk lampu pengeringan wafer

Wed, 24 Jun 2026 01:30:38 +0800

Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran yang intensif bukanlah sesuatu yang dianggap sebagai “risiko”. Ia merupakan halangan yang menghalang proses pengeluaran daripada berjalan dengan lancar. Kawalan dimensi kritikal juga tidak memenuhi spesifikasi yang ditetapkan, dan hasil pengeluaran akan terhenti.

Faktor utama yang menentukan sama ada proses pembakaran dapat berlangsung dengan lancar adalah reflektor yang digunakan dalam lampu pemanasan wafer tersebut. Itulah faktor penentu utamanya.

Apa yang diperlukan sebenarnya adalah kawalan yang boleh diukur. Kita perlu menetapkan geometri reflektor sedemikian rupa agar spektrum cahaya dari lampu dapat disalurkan ke permukaan wafer dengan ketepatan suhu sekitar ±0.1°C. Ini akan membantu memastikan proses pembakaran berjalan dengan baik.

Pemanas untuk pakej pada tahap wafer

Sat, 20 Jun 2026 02:39:49 +0800

Pada garis pengeluaran FO-WLP, kestabilan RDL bermula semasa proses pembakaran. Perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran photoresist atau pengerasan bahan pelindung boleh menyebabkan perubahan lebar garisan, berlakunya rongga, dan merosakkan wafer yang telah diproses melalui proses litografi. Kami mencipta alat pemanas khusus untuk mengekalkan kestabilan suhu pada setiap gelombang pengeluaran.

Inilah inti teknikalnya. Alat ini menggunakan sinar inframerah gelombang pendek, dengan sistem pemancar berbentuk kuarsa-halogen. Ini membolehkan suhu dicapai dengan cepat tanpa melebihi had yang ditetapkan. Pada kawasan seluas 300 mm, ketepatan suhu pada tahap wafer dapat dikekalkan pada tahap ±0.1°C pada suhu pembakaran biasa (90–120°C) dan suhu pembakaran tinggi (100–150°C). Keserasian dengan bilik bersih kelas 1–100 dicapai melalui penggunaan bahan keluli tahan karat jenis 316L, penebat PVDF, serta sistem pemantauan zarah secara masa nyata. Pengawal suhu memastikan suhu tetap stabil dalam jangka masa panjang, dengan variasi suhu antara ±0.2°C antara setiap批次 pengeluaran.

Lampu kuarza inframerah untuk wafer

Tue, 09 Jun 2026 01:27:35 +0800

Di lantai fabrikasi, proses pembakaran photoresist bukanlah sesuatu yang “bagus untuk ada.” Ia adalah kekangan yang ketat. Peralihan 2°C dalam zon panas akan menggeser bias dimensi kritikal dengan cepat, dan lini tidak akan bertoleransi dengan jenis anjakan yang pernah dibenarkan sebelum ini. Kami membangunkan lampu kuarza inframerah kami untuk pemprosesan wafer berdasarkan realiti tersebut: suhu yang kekal stabil, syif demi syif, hari demi hari.

Apa yang penting, dari segi teknikal
Lampu menggunakan kuarza inframerah gelombang pendek untuk menghantar haba terus ke wafer dan pembawa—pautan pantas dan langsung. Ia direka untuk pengulangan ketepatan: keseragaman terma yang ketat merentasi zon yang diterangi, dan emisiviti yang stabil sepanjang hayat lampu. Ini penting apabila bajet terma sempit dalam langkah pembakaran litografi, termasuk soft bake dan hard bake, dan anda tidak mampu menambah beban partikel. Sistem ini sesuai digunakan di bilik bersih Kelas 1–100 dan boleh dipasang dalam ruang yang sama dengan peralatan standard semikonduktor.