Termokopel untuk pemanas berasaskan semikonduktor

Tue, 30 Jun 2026 02:08:56 +0800

Dalam proses pembakaran bahan photoresist, sebarang perbezaan suhu yang kecil pun boleh menyebabkan masalah. Perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran akan menyebabkan variasi dimensi wafer. Kualiti wafer akan menurun sebelum pemeriksa sempat mengesan masalah tersebut. Kami telah mencipta termokopel khusus untuk pemanas semikonduktor, agar masalah ini dapat dielakkan dari awal.

Apa yang penting dalam reka bentuk termokopel ini
Termokopel ini direka untuk mengawal suhu dengan ketepatan yang tinggi, kerana perbezaan suhu yang kecil saja sudah cukup untuk merosakkan kualiti wafer. Ia memastikan suhu di seluruh permukaan wafer tetap stabil pada tahap ±0.1°C, sehingga aliran bahan photoresist dan proses penghilangan pelarut berjalan seperti yang diharapkan. Termokopel ini serasi dengan bilik bersih kelas 1–100, dan tidak menghasilkan zarah-zarah yang boleh merosakkan kualiti wafer. Ketepatan hasil pengukuran juga tetap konsisten sepanjang masa, sehingga mengurangkan risiko gangguan operasi pada mesin berkapasiti tinggi. Reka bentuk termokopel ini juga sesuai dengan blok pemanas standard dan antaramuka sambungan yang biasa digunakan, jadi pemasangannya mudah dan cepat.

Termokopel on Gentle Home Infrared Warmth

Termokopel untuk pemanas berasaskan semikonduktor