Semikonduktor on Gentle Home Infrared Warmth

Lampu inframerah yang dilapisi emas untuk kegunaan dalam semikonduktor

Tue, 28 Jul 2026 03:19:55 +0800

Mendapatkan haba di tempat yang sepatutnya: Lampu inframerah berlapis emas
Jika anda mengendalikan fasiliti pengeluaran pintar, anda pasti tahu betapa sukar untuk mengawal proses pemprosesan wafer dan CVD dengan tepat. Semuanya berkaitan dengan haba. Namun masalahnya ialah haba cenderung untuk tersebar ke merata tempat.

Itulah sebabnya lampu inframerah berlapis emas ini digunakan. Daripada membiarkan tenaga haba tersebar ke dinding bilik pemprosesan, kita gunakan lapisan emas yang nipis untuk memfokuskan haba tersebut. Ia sebenarnya berfungsi seperti cermin untuk haba.

Pemanas untuk bilik bersih bahan separuh konduktor

Fri, 17 Jul 2026 02:05:45 +0800

Memastikan Pemanasan Wafer yang Betul

Jika anda pernah berada di bilik bersih untuk pengeluaran semikonduktor, anda pasti tahu betapa sukarnya tugas ini. Anda memerlukan sistem pemanasan yang dapat menghasilkan suhu yang seragam di seluruh permukaan wafer. Namun, anda juga perlu elakkan sebarang kotoran yang boleh merosakkan proses pemanasan tersebut. Ia merupakan situasi yang sangat sensitif. Kebanyakan orang menggunakan reflektor aluminium sebagai penyelesaian, tetapi masalahnya ialah reflektor ini menyerap terlalu banyak tenaga inframerah. Ini bermakna anda membayar untuk tenaga yang sebenarnya tidak sampai ke wafer.

Pemanas berasaskan semikonduktor yang dikawal oleh PID

Mon, 29 Jun 2026 03:25:38 +0800

Di dalam bilik pembakaran yang canggih ini, perubahan suhu sebanyak setengah darjah saja sudah cukup untuk mengubah kualiti bahan photoresist daripada yang baik menjadi yang tidak boleh digunakan. Jika anda ingin melindungi kualiti produk, kawalan suhu bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan – ia perlu dianggap sebagai parameter proses yang penting.

Apa yang penting dalam sistem ini
Pemanas semikonduktor yang dikawal oleh sistem PID ini direka untuk berfungsi dalam lingkungan suhu yang stabil, sesuai untuk stesen pembakaran litografi. Kestabilan suhu pada permukaan wafer dapat dicapai pada tahap ±0.1°C, dan kebolehulangan proses juga dapat dipastikan dari satu kitaran ke kitaran yang lain. Badan pemanas ini direka untuk digunakan dalam persekitaran bilik bersih kelas 1–100, dengan bahan dan permukaan yang dipilih agar tidak ada penjanaan zarah-zarah yang merosakkan kualiti produk. Pemanas ini direka untuk beroperasi 24/7 tanpa sebarang gangguan, dan kestabilan suhu memastikan bahawa suhu tetap berada dalam julat yang ditetapkan untuk bahan photoresist.

Lampu pemanas inframerah berasaskan semikonduktor

Tue, 23 Jun 2026 13:39:51 +0800

Di kawasan litografi, proses pembakaran—sama ada pembakaran lembut atau keras—menentukan kawalan dimensi yang tepat serta bentuk bahan fotoresist. Perubahan suhu sebanyak 5°C di kawasan panas boleh menyebabkan masalah pada lapisan yang diekstrak. Kami telah mencipta lampu pemanas inframerah untuk mengurangkan variasi suhu tersebut.

Apa yang penting dari segi teknikalnya
Ianya merupakan cahaya inframerah gelombang pendek, jadi masa tindak balasnya sangat cepat—kurang dari satu saat. Tenaga yang dihantar ke wafer adalah tepat. Kestabilan suhu di seluruh permukaan wafer adalah dalam lingkungan ±0.1°C, yang memastikan proses pembakaran dapat dilakukan secara konsisten setiap kali. Lampu ini berfungsi dengan baik, tanpa adanya zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer. Ia juga sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100. Dari segi masa operasi, outputnya tetap stabil sepanjang masa; unit ini telah beroperasi lebih dari 5,000 jam tanpa adanya penyimpangan output melebihi 5%.