Reflektor aluminium untuk lampu IR

Mon, 27 Jul 2026 17:01:35 +0800

Jangan biarkan lampu yang meletup merosakkan proses pengeluaran wafer anda. Jika anda pernah menghadapi situasi di mana lampu IR meletup semasa proses pengeluaran yang memerlukan beban tinggi, anda pasti tahu betapa teruknya situasinya. Ia merupakan situasi yang sangat menyusahkan.

Ia bukan sahaja melibatkan masa henti operasi, tetapi juga serpihan kuarsa dan bahan logam yang jatuh ke atas wafer tersebut. Dengan sekali letupan sahaja, seluruh kumpulan wafer tersebut akan rosak akibat pencemaran sekunder. Ini merupakan situasi yang kacau, mahal, dan sebenarnya boleh dielakkan sepenuhnya.

Pemantul untuk lampu pengeringan wafer

Wed, 24 Jun 2026 01:30:38 +0800

Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran yang intensif bukanlah sesuatu yang dianggap sebagai “risiko”. Ia merupakan halangan yang menghalang proses pengeluaran daripada berjalan dengan lancar. Kawalan dimensi kritikal juga tidak memenuhi spesifikasi yang ditetapkan, dan hasil pengeluaran akan terhenti.

Faktor utama yang menentukan sama ada proses pembakaran dapat berlangsung dengan lancar adalah reflektor yang digunakan dalam lampu pemanasan wafer tersebut. Itulah faktor penentu utamanya.

Apa yang diperlukan sebenarnya adalah kawalan yang boleh diukur. Kita perlu menetapkan geometri reflektor sedemikian rupa agar spektrum cahaya dari lampu dapat disalurkan ke permukaan wafer dengan ketepatan suhu sekitar ±0.1°C. Ini akan membantu memastikan proses pembakaran berjalan dengan baik.

Pemantul Cahaya on Gentle Home Infrared Warmth

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Pemantul untuk lampu pengeringan wafer