Pemantul untuk lampu pengeringan wafer

Wed, 24 Jun 2026 01:30:38 +0800

Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran yang intensif bukanlah sesuatu yang dianggap sebagai “risiko”. Ia merupakan halangan yang menghalang proses pengeluaran daripada berjalan dengan lancar. Kawalan dimensi kritikal juga tidak memenuhi spesifikasi yang ditetapkan, dan hasil pengeluaran akan terhenti.

Faktor utama yang menentukan sama ada proses pembakaran dapat berlangsung dengan lancar adalah reflektor yang digunakan dalam lampu pemanasan wafer tersebut. Itulah faktor penentu utamanya.

Apa yang diperlukan sebenarnya adalah kawalan yang boleh diukur. Kita perlu menetapkan geometri reflektor sedemikian rupa agar spektrum cahaya dari lampu dapat disalurkan ke permukaan wafer dengan ketepatan suhu sekitar ±0.1°C. Ini akan membantu memastikan proses pembakaran berjalan dengan baik.

Mesin pengering bahan pelekat

Fri, 19 Jun 2026 02:49:01 +0800

Di fasiliti pengeluaran yang canggih ini, segalanya berlaku dengan cepat. Jika suhu semasa proses pengeringan bahan perekat tidak stabil, maka produk yang dihasilkan akan menjadi tidak berkualiti. Perubahan suhu yang melampau bukan sahaja membuang sumber bahan yang digunakan, tetapi juga mengurangkan kecekapan proses pemprosesan dan pembungkusan seterusnya. Oleh itu, diperlukan sistem pengeringan yang mampu mengekalkan suhu yang stabil, bukannya menjadi faktor yang boleh mengganggu proses pengeringan.

Apa yang penting dalam sistem ini
Kami telah membina sistem pengeringan ini agar suhu di seluruh permukaan substrat kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Sistem ini dilengkapi dengan pakej khusus yang sesuai untuk bilik bersih bertaraf Class 1–100. Modul pemanasan menggunakan gelombang inframerah jarak dekat, dan suhu dipantau secara tepat pada permukaan substrat, bukan hanya melalui sensor di dalam bilik tersebut. Jumlah zarah yang terbentuk pula kekal di bawah 1 zarah/ft³ pada saiz 0.1 μm. Laluan aliran udara juga direka sedemikian rupa agar tidak menyebabkan gangguan pada proses pengeringan bahan perekat. Ketepatan proses pengeringan pula adalah ≤0.2% untuk setiap 10,000 kitaran, kerana dalam industri semikonduktor, sebarang perubahan suhu merupakan perkara yang tidak boleh diterima.

Mengubati on Gentle Home Infrared Warmth

Pemantul untuk lampu pengeringan wafer

Mesin pengering bahan pelekat