IR on Gentle Home Infrared Warmth

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Mon, 27 Jul 2026 17:01:35 +0800

Jangan biarkan lampu yang meletup merosakkan proses pengeluaran wafer anda. Jika anda pernah menghadapi situasi di mana lampu IR meletup semasa proses pengeluaran yang memerlukan beban tinggi, anda pasti tahu betapa teruknya situasinya. Ia merupakan situasi yang sangat menyusahkan.

Ia bukan sahaja melibatkan masa henti operasi, tetapi juga serpihan kuarsa dan bahan logam yang jatuh ke atas wafer tersebut. Dengan sekali letupan sahaja, seluruh kumpulan wafer tersebut akan rosak akibat pencemaran sekunder. Ini merupakan situasi yang kacau, mahal, dan sebenarnya boleh dielakkan sepenuhnya.

Hujung porselin untuk pemancar IR

Mon, 20 Jul 2026 09:16:19 +0800

Melindungi Penghantar Cahaya Inframerah Ketika Keadaan Menjadi Tidak Stabil

Jika anda menggunakan penghantar cahaya inframerah dalam proses pembersihan kimia, anda pasti tahu betapa berbahayanya situasi tersebut. Terdapat wap mudah terbakar yang berterbangan di udara, dan bahan-bahan korosif yang boleh merosakkan segala benda yang disentuhnya.

Dalam lingkungan seperti ini, sambungan wayar biasa bukan sahaja merupakan titik kelemahan, tetapi juga boleh menyebabkan bencana. Satu percikan api atau sedikit gas yang bocor berhampiran terminal pun sudah cukup untuk mencetuskan masalah besar.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Sat, 18 Jul 2026 02:03:15 +0800

Pemanasan menggunakan cahaya inframerah berbanding udara tertekan: Cara mana yang terbaik untuk memanaskan wafer?

Menggantikan kaedah pemanasan menggunakan udara tertekan dengan kaedah pemanasan menggunakan cahaya inframerah bukan sekadar pertukaran komponen sahaja. Ia merupakan perubahan total dalam cara tenaga diberikan kepada permukaan wafer tersebut.

Bayangkan penggunaan udara tertekan. Anda bergantung pada proses konveksi, di mana udara perlu melakukan kerja keras untuk memanaskan permukaan wafer. Kaedah ini memang berkesan, tetapi ia lambat. Sebaliknya, cahaya inframerah menggunakan tenaga radiasi untuk memanaskan wafer secara langsung.