Processo di riscaldamento ad infrarossi di ashing

Wed, 10 Jun 2026 02:14:55 +0800

Sulla linea da 300mm, l’ashing non è semplicemente un “burn-off”. Si tratta di gestire un budget termico ristretto. Il residuo di fotoresist dopo lo stripping può imprimersi come effetto phantom nel livello di litografia successivo e, se il riscaldamento non è uniforme, si rischia il runaway termico che compromette la resa. I nostri moduli di ashing a infrarossi sono progettati per operare in queste condizioni.

Cosa conta, tecnicamente
L’infrarosso fornisce energia rapida e senza contatto, che scala con l’assorbimento e non con la temperatura globale. I nostri emettitori a infrarosso a onda corta, abbinati a un design termico migliorato al quarzo, garantiscono un’uniformità a livello wafer entro ±0,1°C sull’intera finestra di processo. Il sistema mantiene questa stabilità ai setpoint effettivamente utilizzati per lo stripping del fotoresist, con una ripetibilità sufficiente a preservare il controllo delle dimensioni critiche.
La compatibilità con le camere bianche non è secondaria: utilizziamo materiali a bassa emissione di gas, giunzioni sigillate e un percorso controllato delle particelle, così da mantenere il conteggio particellare entro le aspettative di Classe 1–100. Il risultato sono profili di stripping prevedibili, velocità di rimozione costanti e stress termico minimo sui film sottostanti.

Procedimento on Gentle Home Infrared Warmth

Processo di riscaldamento ad infrarossi di ashing