Riflettore per lampada di essiccazione dei wafer

Wed, 24 Jun 2026 01:30:38 +0800

Nel processo di litografia, una variazione di temperatura di 1°C durante la fase di cottura intensiva non rappresenta certo un “rischio”. È piuttosto una situazione che porta all’interruzione del processo di produzione. Il controllo delle dimensioni critiche diventa impossibile, e il lotto prodotto non può essere utilizzato.

Il fattore determinante per garantire che il processo di cottura avvenga in modo corretto è rappresentato dal riflettore presente nella lampada utilizzata per la cottura dei wafer. Punto.

Luce on Gentle Home Infrared Warmth

Riflettore per lampada di essiccazione dei wafer