Pemanas semikonduktor yang dikendalikan oleh PID

Mon, 29 Jun 2026 03:25:38 +0800

Di area produksi, perubahan suhu selama setengah derajat saja sudah cukup untuk membuat kualitas fotoresist menjadi buruk. Jika Anda ingin melindungi kualitas produk, kontrol suhu tidak boleh dianggap sebagai hal yang kurang penting; hal ini harus diperlakukan sebagai parameter proses yang penting.

Yang penting dalam sistem ini
Pemanas semikonduktor yang dikendalikan oleh sistem PID ini dirancang dengan mekanisme respons berupa loop tertutup yang sesuai untuk stasiun pemanasan dalam proses litografi. Dengan demikian, keseragaman suhu di permukaan wafer dapat dipertahankan pada kisaran ±0,1°C, sehingga hasil produksi tetap konsisten dari siklus ke siklus. Badan pemanas ini dirancang untuk digunakan di lingkungan ruang bersih kelas 1–100, dengan bahan dan permukaan yang dipilih sedemikian rupa agar tidak terjadi pembentukan partikel apa pun. Pemanas ini dirancang untuk beroperasi 24/7 tanpa gangguan, dan stabilitas suhunya memastikan bahwa suhu tetap berada dalam batas toleransi yang ditetapkan untuk fotoresist.

Terkendali on Gentle Home Infrared Warmth

Pemanas semikonduktor yang dikendalikan oleh PID