Reflektor untuk lampu pengering wafer

Wed, 24 Jun 2026 01:30:38 +0800

Di ruang proses litografi, perubahan suhu sebesar 1°C selama proses pemanggangan keras bukanlah hal yang berisiko. Hal tersebut justru menyebabkan proses produksi terhenti. Kontrol dimensi kritis tidak memenuhi standar yang ditetapkan, sehingga produk yang dihasilkan pun tidak memenuhi spesifikasi yang diharapkan.

Yang paling penting untuk menentukan apakah proses pemanggangan berjalan dengan baik adalah reflektor yang ada pada lampu pemanggang wafer. Itulah faktor penentu utamanya.

Yang dibutuhkan sebenarnya adalah kontrol yang dapat diukur. Kita menyesuaikan geometri reflektor agar spektrum cahaya dari lampu dapat mencapai permukaan wafer dengan tingkat keseragaman suhu sebesar ±0,1°C. Hal ini sangat penting untuk mendukung proses pemanggangan lunak maupun keras.

Pabrik pengeringan bahan perekat jenis attach adhesive

Fri, 19 Jun 2026 02:49:01 +0800

Di area produksi, Anda tahu bagaimana keadaannya. Jika suhu yang diperlukan untuk proses pengerasan bahan perekat tidak sesuai spesifikasi, maka hasil produksi akan menjadi tidak memuaskan. Fluktuasi suhu tidak hanya menyebabkan pemborosan bahan, tetapi juga mengurangi efisiensi proses litografi dan pengemasan selanjutnya. Kita membutuhkan sistem pengerasan yang mampu menjaga suhu tetap konstan, bukan menjadi faktor variabel yang perlu diperhatikan.

Apa yang penting dalam sistem ini? Kami merancang sistem pengerasan ini agar suhu di seluruh permukaan substrat tetap stabil, yaitu sekitar ±0,1°C. Sistem ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Modul pemanas menggunakan sinar inframerah berfrekuensi tinggi, dengan sistem pengukuran suhu yang akurat, sehingga suhu yang diinginkan dapat diketahui secara tepat, bukan hanya diperkirakan berdasarkan sensor di dalam ruangan.

Mengobati on Gentle Home Infrared Warmth

Reflektor untuk lampu pengering wafer

Pabrik pengeringan bahan perekat jenis attach adhesive