Pemanas untuk pengemasan pada tingkat wafer

Sat, 20 Jun 2026 02:39:49 +0800

Pada proses FO-WLP, stabilitas RDL dimulai sejak masa pemanasan. Perubahan suhu sebesar 1°C selama proses pemanasan fotoresistor atau pengeringan bahan penyegel dapat menyebabkan perubahan lebar garis pada wafer, munculnya rongga-rongga di dalam wafer, serta merusak wafer yang sudah berhasil melewati proses litografi. Kami menciptakan alat pemanas khusus untuk menjaga stabilitas suhu, agar performa alat tetap konsisten dari satu sesi produksi ke sesi produksi berikutnya.

Inti teknologinya adalah penggunaan sinar inframerah gelombang pendek dengan array pemancar berbahan kuarsa-halogen. Dengan demikian, alat ini dapat mencapai suhu yang ditentukan dengan cepat, tanpa terjadi overshoot. Di seluruh area 300 mm tersebut, ketahanan suhu wafer tetap stabil pada kisaran ±0,1°C pada suhu pemanasan biasa (90–120°C) dan suhu pemanasan tinggi (100–150°C). Kompatibilitas dengan lingkungan cleanroom kelas 1–100 dicapai melalui penggunaan bahan stainless steel tipe 316L, isolator berbahan PVDF, serta sistem pemantauan partikel yang efektif. Kontroler alat ini mempertahankan stabilitas suhu secara real-time, sehingga ketepatan suhu tetap terjaga dalam kisaran ±0,2°C antar batch produksi maupun dari hari ke hari.

Keluar on Gentle Home Infrared Warmth

Pemanas untuk pengemasan pada tingkat wafer