IR on Gentle Home Infrared Warmth

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Mon, 27 Jul 2026 17:01:35 +0800

Hentikan kebiasaan membiarkan lampu yang meledak merusak proses produksi wafer Anda. Jika Anda pernah mengalami situasi di mana lampu IR meledak saat proses produksi berlangsung, Anda pasti tahu betapa menyebalkannya hal tersebut. Ini merupakan situasi yang sangat mengkhawatirkan.

Masalahnya bukan hanya soal waktu henti proses produksi saja. Yang lebih parah lagi adalah serpihan kuarsa dan potongan logam yang jatuh ke atas wafer. Dengan begitu, seluruh batch produk harus dibuang karena kontaminasi yang terjadi. Ini tentu merepotkan, mahal, dan sebenarnya bisa dihindari.

Ujung keramik untuk emitor IR

Mon, 20 Jul 2026 09:16:19 +0800

Mempertahankan Keamanan Emitter IR dalam Lingkungan yang Berbahaya
Jika Anda menggunakan emitter IR di lini pembersihan kimia, Anda pasti sudah mengenal situasi yang berbahaya tersebut. Ada uap-uap mudah terbakar yang berkeliaran di sekitar, serta zat-zat korosif yang merusak segala benda yang disentuhnya.

Dalam lingkungan seperti itu, koneksi kabel biasa bukan hanya titik lemah, tetapi juga sumber bahaya. Sebuah percikan kecil atau sedikit kebocoran gas di dekat terminal saja sudah cukup untuk menyebabkan bencana.

Itulah mengapa kami menggunakan penutup berbahan keramik.

Sensor IR berpresisi untuk wafer

Sat, 18 Jul 2026 02:03:15 +0800

Pemanasan dengan Radiasi Inframerah vs. Pemanasan dengan Udara Bertekanan: Mana yang Lebih Baik untuk Memanaskan Wafer?

Beralih dari metode pemanasan menggunakan udara bertekanan ke metode pemanasan menggunakan radiasi inframerah bukan sekadar penggantian komponen saja. Ini merupakan perubahan total dalam cara kita memberikan energi kepada permukaan wafer tersebut.

Coba pikirkan tentang metode pemanasan menggunakan udara bertekanan. Metode ini mengandalkan proses konveksi, di mana udara yang bergeraklah yang bertugas memanaskan permukaan wafer. Metode ini memang efektif, tetapi lambat. Berbeda dengan metode pemanasan menggunakan radiasi inframerah. Metode ini menggunakan energi radiasi untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung.