वेफर लेवल पैकेजिंग हीटर

Sat, 20 Jun 2026 02:39:49 +0800

FO-WLP प्रक्रिया में, RDL की स्थिरता तब ही शुरू होती है, जब वेफरों को गर्म किया जाता है। फोटोरेजिस्ट को नरम तापमान पर गर्म करने या एनकैप्सुलेंट को सही तापमान पर सूखाने के दौरान 1°C का अंतर भी वेफरों की लाइन-विड्थ पर प्रभाव डाल सकता है; इससे वेफरों में खाली जगहें बन सकती हैं, और वे नष्ट हो सकते हैं। हमने ऐसा ही हीटर बनाया है, ताकि तापमान नियंत्रण में कोई गड़बड़ी न हो।

इस हीटर में शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड तकनीक का उपयोग किया गया है; इसके कारण यह तेजी से लक्ष्य तापमान तक पहुँच जाता है, बिना किसी अतिरिक्त तापमान वृद्धि के। 300 मिमी के क्षेत्र में, सामान्य तापमानों (90–120°C) पर वेफरों का तापमान ±0.1°C के भीतर ही रहता है। क्लीनरूम क्लास 1–100 के मानकों का पालन 316L स्टेनलेस स्टील से बनी संरचना, PVDF इंसुलेटरों, एवं इन-सीटू पार्टिकल मॉनिटरिंग द्वारा संभव होता है। कंट्रोलर, वास्तविक समय में तापमान को नियंत्रित करता है; इससे वेफरों का तापमान हर बार लगभग ±0.2°C के भीतर ही रहता है।

बाहर on Gentle Home Infrared Warmth

वेफर लेवल पैकेजिंग हीटर