בחדר הליתוגרפיה, חשיפת EUV דוחפת את תקציב החום של כל שכבת הפוטורזיסט עד לקצה. סטייה בטמפרטורה של יותר מ-±0.5°C במהלך אפייה רכה או קשה מספיקה לפספס את יעדי המידות הקריטיות (CD), לגרום לפגמים בהדפסה ולהשליך וופרים שכבר נושאים היסטוריית תהליכים של שעות בחזית הקו. חלקי החימום המוזנים לאפיית השלבים אינם אביזרים. אלו נקודות בקרה בתהליך, פשוט וברור.
מה שחשוב, מבחינה טכנית
מחממי הפוטורזיסט ל-EUV צריכים לספק אחידות תרמית ברמת הוופר של ±0.1°C על פני שטח הרזיסט, מאחר שבקרת רוחב הקווים תלויה תרמית בפרופיל האפייה. אנו משיגים זאת בשילוב אלמנטים NIR קצרים ובינוניים עם ספקטרום הספיגה של הפוטורזיסט, בעוד שעיצוב קווארץ-הלוגן מספק חימום יציב ומהיר תגובה עם הפעלה נמוכה של חלקיקים. המערכת בנויה עבור חדר נקי Class 1–100, עם אימות אפס פליטת חלקיקים באמצעות ניטור בזמן אמת וגיאומטריית אזור חם אטומה שמונעת פליטת גזים המזיקים לוופר. יכולת החזרה מובנת בלולאת הבקרה: יציבות נקודת ההגדרה נשמרת גם תחת עומס עבודה רציף 24/7, ומונעת השבתות בלתי צפויות בלוחות עבודה עם מגוון רחב של אצוות.
מדוע זה עובד בליתוגרפיית EUV? כי שלב האפייה מגדיר את זרימת הרזיסט, מסלק ממיסים שאריים, וקובע את סלקטיביות התהליכים בהמשך. בקרת טמפרטורה קפדנית מתורגמת ישירות לפיזור צר יותר של CD, פחות אצוות לתיקון, ודיוק חפיפה צפוי. ניתן לשמור על אותו מתכון תהליך בין משמרות ללא כוונון רציף, ומפחיתים פסולת שמתבטאת מאוחר יותר כהטיה באת’ץ בגלל אי-אחידות תרמית. צריכת האנרגיה נשמרת גם היא תחת שליטה—ארכיטקטורת המחמם מכוונת ישירות לרזיסט במקום לחמם את קירות התאים.
כמה הערות מעשיות. חלקי המחמם הללו מתאימים למסילות הרזיסט הסטנדרטיות, אך ממשק התרמי—שטיחות הבלוק ולחץ המגע—חייב לעמוד בסובלנות שצוינה. יש לבצע הסמכה קצרה לאימות פרופיל הטמפרטורה ביחס למבנה הוופר שלך, במיוחד עם רזיסט עבה או שכבות תחתונות חדשות. לאחר כוונון הממשק, היחידה תוכל לפעול לאלפי מחזורים עם בדיקות תחזוקה שגרתיות בלבד.