Semiconducteur on Gentle Home Infrared Warmth

Thermocouple pour chauffage à semi conducteurs

Tue, 30 Jun 2026 02:08:56 +0800

En matière de traitement du photorésistant, les écarts de température ne sont pas tolérés. Une déviation de 2 °C pendant le séchage entraîne des variations de la largeur des lignes sur toute la surface de la wafer. Le taux de productivité diminue avant même que l’inspecteur ne puisse s’en rendre compte. Nous avons conçu notre thermocouple pour les chauffages à semi-conducteurs afin d’éviter ces pertes dès leur origine.

Ce qui est important Ce thermocouple est conçu pour assurer un contrôle précis de la température, car les exigences du processus sont exprimées en dizaines de degrés. Il permet d’obtenir une uniformité de température de ±0,1 °C dans toute la zone de chauffage, ce qui garantit que le flux du photorésistant et l’élimination des solvants se font dans les limites prescrites. Le capteur est compatible avec des chambres propres de classe 1–100 et ne produit aucune particule, ce qui évite toute contamination pendant le processus de lithographie. La répétabilité des résultats est constante, ce qui permet d’éviter tout arrêt imprévu des équipements à grande échelle. La géométrie du capteur convient aux blocs de chauffage standard et aux connecteurs courants, ce qui simplifie son installation et ses remplacements.

Chauffeur à semi conducteurs contrôlé par PID

Mon, 29 Jun 2026 03:25:37 +0800

Sur le plan de production, une variation de température d’un demi-degré suffit pour transformer un profil de résistance photographique acceptable en un profil inutilisable. Si vous voulez garantir un rendement optimal, le contrôle thermique ne peut pas être considéré comme un élément secondaire – il doit être traité comme un paramètre de processus essentiel.

Ce qui est important à savoir Nous avons conçu ce chauffage à contrôle PID autour d’un système à boucle fermée, adapté aux stations de cuisson pour la lithographie. Ainsi, on parvient à maintenir une uniformité de température de ±0,1°C sur toute la surface active de la wafer. De plus, on obtient une reproductibilité d’un cycle à l’autre. Le corps du chauffage est compatible avec des environnements propres de classe 1–100 ; les matériaux et les surfaces utilisés permettent d’éviter toute génération de particules. Ce chauffage est conçu pour fonctionner 24/7, sans interruptions imprévues. La stabilité de température permet de maintenir les valeurs dans les limites acceptables pour la résistance photographique.

Lampe de chauffage infrarouge à semi conducteurs

Tue, 23 Jun 2026 13:39:51 +0800

Sur le poste de lithographie, le profil de cuisson – soit une cuisson douce, soit une cuisson intense – détermine les paramètres essentiels pour contrôler les dimensions critiques et la forme du résistant photographique. Une variation de 5 °C dans la zone de chauffage suffit à affecter négativement la qualité de la couche traitée par gravure. Nous avons conçu une lampe à infrarouges spéciale pour éliminer cette variabilité.

Ce qui est important sur le plan technique
Il s’agit d’infrarouges à ondes courtes, ce qui permet une réaction rapide – en quelques fractions de seconde. L’énergie est ainsi transmise avec précision jusqu’à la puce. La uniformité à niveau de puce reste inférieure ou égale à ±0,1 °C, ce qui garantit que le processus de cuisson reste reproductible, cycle après cycle. La lampe fonctionne sans aucun problème, sans aucune particule visible, et peut être utilisée dans des salles propres de classe 1–100. En termes de fiabilité, sa performance reste stable tout au long de la journée ; les unités ont fonctionné pendant plus de 5 000 heures, avec une déviation de performance inférieure à 5 %.