<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Cure on Gentle Home Infrared Warmth</title>
		<link>http://home-ir-warmth.com/fr/tags/cure/</link>
		<description>Recent content in Cure on Gentle Home Infrared Warmth</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fr</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 24 Jun 2026 01:30:38 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://home-ir-warmth.com/fr/tags/cure/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Réflecteur pour lampe de séchage de wafer</title>
				<link>http://home-ir-warmth.com/fr/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 24 Jun 2026 01:30:38 +0800</pubDate>
				<guid>http://home-ir-warmth.com/fr/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://home-ir-warmth.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Réflecteur pour lampe de séchage de wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le poste de lithographie, une variation de température de 1 °C pendant le processus de cuisson n’est pas considérée comme un « risque ». C’est plutôt une cause d’arrêt de la production. Le contrôle des dimensions critiques devient alors impossible, et toute la série de produits est compromise.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Ce qui détermine réellement si le processus de cuisson se déroule correctement, c’est le réflecteur présent dans la lampe utilisée pour cuire les wafers. Point final.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
