Horno de alta temperatura para laboratorio de fabricación

Tue, 02 Jun 2026 04:11:47 +0800

En la planta de fabricación, una variación de 2°C durante el horneado de fotoresiste es suficiente para desplazar una línea por nanómetros. Una sola partícula durante el secado puede arruinar muchas piezas. Por eso existe este horno de alta temperatura: para eliminar la variabilidad en los pasos térmicos. Lo diseñamos para los momentos en que la temperatura no es solo un parámetro, sino el proceso.

Qué importa bajo la superficie
El horno mantiene una uniformidad térmica a nivel de oblea de ±0.1°C en todo el lote, de modo que las propiedades críticas de la película se mantengan repetibles de lote a lote. La compatibilidad con salas limpias Clase 1–100 proviene de interfaces de cámara selladas y materiales de baja emisión de gases, manteniendo la generación de partículas en cero durante la rampa y el tiempo de mantenimiento. Los perfiles de horneado suave y duro de fotoresiste se ejecutan con el tipo de estabilidad térmica que mantiene un control estricto de la dimensión crítica. Para el curado de empaques, se obtienen rampas rápidas y controladas sin sobrepasos térmicos, evitando fallas como adhesión fracturada o apilamientos deslaminados. El consumo energético se gestiona con aislamiento refractario y ciclos de trabajo optimizados en los calentadores, reduciendo el costo por oblea sin sacrificar precisión.

Temp on Gentle Home Infrared Warmth

Horno de alta temperatura para laboratorio de fabricación