Partes del calentador de resistencias para radiación UV extrema (EUV)

Mon, 01 Jun 2026 18:12:39 +0800

En la sala de litografía, la exposición EUV lleva el presupuesto térmico de cada capa de fotoresina al límite. Una deriva de temperatura superior a ±0,5°C durante el horneado suave o el horneado duro es suficiente para perder los objetivos de dimensión crítica (CD), generar defectos de impresión y desechar obleas que ya acumulan horas de historia en el proceso front-end. Esas piezas calefactoras que alimentan los pasos de horneado no son accesorios. Son nodos de control de proceso, pura y simplemente.

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Partes del calentador de resistencias para radiación UV extrema (EUV)