Infrarot Quarzlampe für Wafer

Tue, 09 Jun 2026 01:27:35 +0800

On the fab floor ist das Backen von Photoresist kein „Nice-to-have“. Es ist eine harte Vorgabe. Eine Drift von 2°C in der Hot Zone verschiebt den Critical-Dimension-Bias schnell, und die Linie toleriert keine Abweichungen mehr, die früher als vertretbar galten. Unser Infrarot-Quarz-Lampe für die Waferverarbeitung wurde genau auf diese Anforderungen hin entwickelt: Temperatur, die sich von Schicht zu Schicht, Tag für Tag konstant hält.

Technisch relevante Punkte
Die Lampe nutzt kurzwellige Infrarotstrahlung aus Quarz, um die Wärme schnell und direkt in Wafer und Träger einzukoppeln. Sie ist auf Reproduzierbarkeit ausgelegt: enge thermische Homogenität über die beleuchtete Fläche und stabile Emissivität über die gesamte Lebensdauer der Lampe. Das ist entscheidend, wenn das thermische Budget bei Lithografie-Backschritten, inklusive Softbake und Hardbake, eng bemessen ist und keine zusätzliche Partikelbelastung zulässig ist. Das System ist für den Einsatz in Reinräumen der Klasse 1–100 ausgelegt und passt in gängige Footprints von Standard-Halbleiterausrüstungen.

Quarz on Gentle Home Infrared Warmth

Infrarot Quarzlampe für Wafer