На поверхні літографічного обладнання процес випалювання фотополімеру – як м’яке, так і жорстке випалювання – визначає параметри контролю критичних розмірів та форми фотополімеру. Навіть зміна температури на 5°C у гарячій зоні може призвести до зниження якості обробки плівки. Ми створили інфрачервону лампу для нагріву напівпровідників, щоб усунути цю неконтрольовану зміну температури.
Що є важливим з технічної точки зору
Це короткохвильове інфрачервоне випромінювання, тож час реакції дуже швидкий – менше секунди. Енергія передається безпосередньо на пластину. Рівномірність температури по всій поверхні пластини становить ±0,1°C, що забезпечує однакові результати під час кількох процедур випалювання. Лампа працює без жодних перешкод, без утворення частинок, і підходить для використання в чистих кімнатах класу 1–100. Щодо стабільності роботи, то потужність лампи залишається стабільною протягом усього часу роботи; пристрої працюють понад 5 000 годин, при цьому відхилення потужності не перевищує 5%.
Чому це підходить для реальних процесів
Її можна встановити прямо на літографічний апарат чи окрему станцію випалювання. Вона замінює старі системи, які не дозволяють контролювати температуру – через що на поверхні фотополімеру утворюються дефекти. Результатом є стабільне випалювання фотополімеру, що забезпечує правильну форму фотополімеру та зменшує кількість дефектів. Швидка реакція лампи також скорочує час процесу, що зменшує енергоспоживання на одну пластину та підвищує продуктивність.
Що потрібно врахувати під час планування
Для роботи лампи потрібне стабільне джерело живлення та ефективна система керування температурою. Лампа може працювати довго, але кварцовий корпус все одно вимагає обережного поводження під час технічного обслуговування. Плануйте заміну лампи під час планових перерв у роботі чистих кімнат, щоб уникнути непланових зупинок. Таким чином процес залишатиметься під контролем з циклу в цикл.