Pare de esperar que o forno funcione: por que a cura por radiação infravermelha é melhor que o uso de ar quente
Muitas linhas de produção de semicondutores ainda dependem da circulação de ar quente para a cura e secagem dos materiais. É um método ultrapassado: o ar é aquecido e espera chegar até o interior do substrato para cumprir sua função.
O problema é que esse método é lento. Extremamente lento. Em uma fábrica de alta pressão, isso não é apenas um incômodo – é um grande obstáculo que prejudica todo o processo de produção.
Nós substituímos esses sistemas obsoletos por lâmpadas de cura por radiação infravermelha certificadas. Veja por que essa mudança faz toda a diferença.
Sem intermediários
Pense em como funciona o ar quente: o ar precisa tocar a superfície do wafer, transferir o calor e esperar que ele penetre completamente no material. O ar funciona como um intermediário, e intermediários sempre retardam o processo.
As lâmpadas de radiação infravermelha evitam todo esse processo. Elas enviam ondas eletromagnéticas direto para o material. É instantâneo. Não há necessidade de aquecer o ambiente ou esperar que o forno atinja a temperatura desejada. Para os engenheiros, isso é um sonho, pois o tempo gasto por unidade de produto diminui significativamente. Vemos reduções de 50% a 80% no tempo de ciclo, dependendo da espessura do material e da temperatura desejada.
As limitações (e como as superamos)
A radiação infravermelha não é mágica. Ela é poderosa, mas exige cuidado. Como as lâmpadas de ondas curtas concentram muita energia em um pequeno espaço, elas podem danificar a superfície do material se a correia transportadora estiver se movendo muito lentamente. Não se pode simplesmente “configurar e esquecer”. São necessários controladores PID para manter a temperatura estável.
Também sabemos que “limpo” significa realmente limpo dentro de uma fábrica. Por isso, nossos invólucros de quartzo são certificados para minimizar a emissão de partículas. Assim, você não precisa se preocupar com partículas indesejadas que possam estragar um lote de wafers.
Economizando espaço
Além da velocidade, há também a questão do tamanho dos equipamentos. Os fornos de ar quente costumam ser enormes e ocupam muito espaço valioso. Já os túneis de cura por radiação infravermelha são menores. Se você deseja aumentar a capacidade de produção, não pode permitir que os sistemas de ar forçado fiquem para trás. Basta conectar as lâmpadas de radiação infravermelha e ajustar a distância em relação ao substrato. Assim, a produtividade aumenta drasticamente. É uma maneira muito mais eficiente de trabalhar.