Op de lithografieafdeling bepaalt het bakprofiel – zowel het zachte als het harde bakken – de kwaliteit van de fotorezystlaag. Een verschil van 5°C in de hete zone kan al leiden tot problemen met de kwaliteit van de etageslag. We hebben een infraroodverwarmingstoestel ontworpen om deze variabiliteit weg te nemen.
Wat technisch belangrijk is: Het gaat om kortegolf-infraroodlicht, waardoor de reactietijd zeer snel is – subseconden. Hierdoor wordt de energie precies richting de wafer gestuurd. Op het niveau van de wafer blijft de uniformiteit binnen ±0,1°C, waardoor het bakproces steeds op dezelfde manier verloopt. Het apparaat werkt schoon, zonder enige vorm van vuil, en past goed in zuiverruimtes van klasse 1–100. De nauwkeurige temperatuurregeling zorgt er ook voor dat de uitvoer stabiel blijft, zelfs 24/7. Apparaten hebben al meer dan 5.000 uur lang goed gewerkt, met een foutmarge van minder dan 5%.
Waarom het geschikt is voor echte productieprocessen: Het apparaat kan rechtstreeks worden geïntegreerd in het lithografieproces of in een aparte bakstation. Het vervangt de oude apparaten die problemen veroorzaken door temperaturen die te hoog zijn – dit leidt tot problemen met de fotorezystlaag. Het resultaat is een consistente bakking, waardoor de fotorezystlaag goed behouden blijft. De snelle thermische reactie verkort ook de procesduur, waardoor de kosten per wafer lager worden en de productiecapaciteit toeneemt.
Wat je moet overwegen bij de implementatie: Voor de installatie is een stabiele stroombron nodig, evenals een goede thermische beheersing om de uniformiteit te behouden. Het apparaat is bestand, maar de kwartsomhulling moet tijdens het onderhoud toch voorzichtig worden behandeld. Plan de vervangingen rondom de geplande stilstandtijden van de zuiverruimte, zodat er geen onverwachte stilstanden optreden. Op deze manier blijft het proces onder controle, cyclus na cyclus.