半導体製造装置をオーブンのように使うのはやめましょう。
ほとんどの赤外線ヒーターは、エネルギーをあらゆる方向に放出します。狭い半導体製造装置の中では、これは悪夢のような状況です。ウェハーだけでなく、装置の内壁も加熱されてしまいます。その結果、装置全体がまるでオーブンのようになってしまいます。操作員が火傷したり、部品が本来の寿命よりも早く損傷したりする可能性があります。これはエネルギーの無駄遣いであり、安全上の問題でもあります。
解決策は、熱を集中させることです。
私たちは、放射エネルギーを「泡」として考えるのではなく、「ビーム」として考えるようにしました。短波長の赤外線発光体と適切な反射体を組み合わせることで、熱を必要な場所、つまり洗浄エリアにだけ送り込むことができます。そうすれば、ワークピースの表面温度を適切に保ちつつ、装置の他の部分は冷たいままです。これははるかに効率的な方法です。
湿気の対処
これらのランプは洗浄環境に置かれているため、常に湿気と戦っています。蒸気が発生した瞬間に回路がショートしないように、端子を密封し、高湿度に耐えられる石英ガラスを使用しています。濡れていても問題なく動作します。
デメリット（何事にもデメリットはあります）
問題は、熱を集中させると、非常に狭い範囲でのみ加熱が可能になるということです。ワークピースが数ミリメートルでもずれていると、均一に加熱されないことになります。設定を適当にしてはいけません。ランプの角度に合わせて、ジグやアライメントレールを正確に調整する必要があります。
操作員の負担を軽減する
「熱い壁」の問題を解決すれば、すべてが簡単になります。外部パネルが誰かを焼傷させないように、大量の断熱材を使ったり、大きくて重い冷却ファンを使ったりする必要はありません。そうすれば、装置を扱う際の安全性が向上し、金属製の箱の中の空気を温めるための費用も節約できます。