Di area litografi, proses pemanasan—baik yang bersifat lembut maupun keras—berperan penting dalam mengontrol dimensi-dimensi kritis serta bentuk fotoresist. Fluktuasi suhu sebesar 5°C di zona pemanasan dapat berdampak negatif pada kualitas lapisan yang dihasilkan selama proses etching. Kami menciptakan lampu pemanas inframerah untuk menghilangkan variabilitas suhu tersebut.
Yang penting secara teknis: Lampu ini menggunakan gelombang inframerah pendek, sehingga responsnya sangat cepat—dalam hitungan detik. Energi yang dihasilkan dapat disalurkan secara tepat ke wafer. Konsistensi suhu di seluruh permukaan wafer tetap terjaga pada kisaran ±0,1°C, sehingga proses pemanasan dapat dilakukan secara konsisten dari satu sesi ke sesi berikutnya. Lampu ini bekerja tanpa campuran partikel apa pun, dan cocok digunakan di ruang kerja bersih kelas 1–100. Dari segi durasi penggunaan, output lampu tetap stabil sepanjang waktu; unit ini telah beroperasi lebih dari 5.000 jam tanpa adanya deviasi output lebih dari 5%.
Mengapa lampu ini cocok digunakan dalam proses produksi: Lampu ini dapat langsung digunakan dalam alat litografi atau stasiun pemanasan mandiri. Lampu ini menggantikan peralatan lama yang sulit mengontrol suhu, sehingga mencegad terbentuknya lapisan tidak diinginkan pada fotoresist. Dengan demikian, profil fotoresist tetap terjaga, sehingga selektivitas proses etching pun meningkat, dan cacat pada hasil produksi berkurang. Respons termal yang cepat juga mempercepat proses produksi, sehingga biaya operasional per wafer berkurang dan kapasitas produksi meningkat.
Apa yang perlu dipersiapkan: Untuk pemasangan, diperlukan sumber daya listrik yang stabil, serta sistem manajemen panas yang efektif agar suhu tetap konstan. Meskipun lampu ini tahan lama, namun lapisan kuarsa yang melindungi lampu tersebut masih perlu ditangani dengan hati-hati saat pemeliharaan. Lakukan penggantian lampu pada saat ruang kerja bersih sedang tidak digunakan, agar tidak terjadi gangguan proses produksi. Dengan demikian, proses produksi akan tetap terkendali, dari siklus ke siklus berikutnya.