Empêchez vos équipements de fondre : une meilleure manière de chauffer les wafer
Si vous avez déjà mis en place un système de chauffage par rayons infrarouges pour les wafer de semi-conducteurs, vous connaissez les difficultés associées. Il ne s’agit pas vraiment de réchauffer le wafer – c’est la partie facile. Le vrai problème, c’est d’empêcher votre équipement coûteux d’absorber toute cette chaleur.
Les lampes infrarouges classiques diffusent l’énergie dans toutes les directions. Si on les laisse fonctionner sans contrôle, les parois intérieures de la chambre de traitement se réchauffent excessivement. Cela représente non seulement un risque pour ceux qui se trouvent à proximité de l’équipement, mais cela peut aussi déformer le cadre de l’appareil. Ce n’est vraiment pas idéal.
Focaliser la chaleur
Nous résolvons ce problème en utilisant une technologie infrarouge directionnelle. Au lieu d’utiliser simplement un tube en quartz, nous utilisons des réflecteurs ou des revêtements spéciaux pour diriger l’énergie exactement là où elle est nécessaire : sur le wafer.
Imaginez que vous passez d’une ampoule ordinaire à une lampe de poche. En concentrant le faisceau lumineux, on empêche les rayons parasites de toucher les parois. La chaleur reste donc concentrée sur le wafer, tandis que le reste de l’équipement reste à une température plus basse.
Trouver la distance idéale
Il faut trouver la bonne distance entre la lampe et le wafer. Si elle est trop courte, des points chauds apparaîtront sur le wafer. Si elle est trop grande, de l’énergie sera gaspillée. Nous déterminons généralement cette distance en tenant compte de la puissance de la lampe et de la façon dont les parois de la chambre réagissent à la chaleur.
C’est un compromis : une distance plus courte permet au wafer de monter en température plus rapidement. Mais cela exerce également une pression beaucoup plus grande sur les systèmes de refroidissement. Si ces systèmes ne parviennent pas à gérer l’augmentation de température, les lampes se brûleront bien avant l’heure prévue.
Assurer la sécurité
L’avantage majeur du chauffage directionnel, c’est que l’enveloppe extérieure de l’équipement reste froide. On peut donc la toucher sans crainte. Cela signifie que vous n’avez plus besoin de ces écrans thermiques encombrants qui gênent souvent le traitement des wafer. Votre installation devient ainsi plus propre, et votre atelier est beaucoup plus sûr.
Un petit conseil : plus vous concentrez le faisceau lumineux, plus il est important de bien ajuster l’alignement. Si la lampe bouge ne serait-ce que de quelques millimètres, le point chaud pourrait quitter le wafer et se diriger vers un élément de soutien. Gardez-la bien alignée, et tout fonctionnera parfaitement.