در خط تولید FO-WLP، پایداری RDL از همان مرحله فرآیند حرارتی شروع میشود. تغییر دما در حد ۱ درجه سانتیگراد در طول فرآیند حرارتی، میتواند باعث تغییر عرض خطوط روی ویفر شود؛ همچنین میتواند منجر به ایجاد حفرههایی در ویفر شود و ویفرهایی که قبلاً از فرآیند لیتوگرافی عبور کردهاند را نابود کند. ما یک دستگاه گرمایشی ساختیم که بتواند رفتار حرارتی ویفر را در تمام مراحل تولید، یکنواخت نگه دارد.
نکته کلیدی این است که این دستگاه از تابش مادون قرمز با طول موج کوتاه و الکترودهای کوارتز-هالوژنی برای تولید گرما استفاده میکند؛ بنابراین میتواند به سرعت به دمای مورد نظر برسد، بدون اینکه دما بیش از حد افزایش یابد. در کل فضای ۳۰۰ میلیمتری، یکنواختی دما در دماهای معمولی فرآیند حرارتی (۹۰–۱۲۰ درجه سانتیگراد) و دماهای بالاتر (۱۰۰–۱۵۰ درجه سانتیگراد)، در حد ±۰.۱ درجه سانتیگراد باقی میماند. ساختار این دستگاه از جنس فولاد ضدزنگ ۳۱۶L و عایقهای PVDF ساخته شده است؛ همچنین، تولید هیچ ذرهای در این دستگاه وجود ندارد. کنترلکننده این دستگاه، دما را در زمان واقعی کنترل کرده و تکرارپذیری عملکرد را در حد ±۰.۲ درجه سانتیگراد حفظ میکند.
خطوط تولید FO-WLP، با بودجه حرارتی محدودی کار میکنند؛ این دستگاه با حفظ دمای مورد نظر، از این بودجه حرارتی محافظت میکند، حتی در شرایط کار ۷×۲۴ ساعته.
انتظار داشته باشید که در تولید مداوم، هیچ توقف غیرمنتظرهای رخ ندهد؛ زمان عمر مفید این دستگاه بیش از ۱۰,۰۰۰ ساعت است. در نتیجه، تعداد کارهای تکراری کمتر میشود، کنترل ابعاد حیاتی ویفر بهتر میشود، و زمان تولید نیز قابل پیشبینی است. مصرف انرژی نیز به دلیل جرم حرارتی پایین و اتصال کارآمد الکترودها، کم باقی میماند؛ بنابراین هزینههای عملیاتی کاهش مییابد، بدون اینکه دقت دما کاهش یابد.
نصب این دستگاه نیازمند اتصالات مناسب و مسیرهای مناسب برای خروج گازهای حاصل از فرآیند تولید است؛ تا فشار محیطی در اتاقهای تمیز حفظ شود.
در صورتی که این دستگاه در فاصله ±۱ میلیمتری محل مورد نظر قرار گیرد و مسیر خنککننده نیز خالی از ذرات باشد، عملکرد بهینهای خواهد داشت. برای نصب این دستگاه، حدود یک روز زمان لازم است؛ سپس یک آزمایش کوتاه برای تأیید عملکرد آن انجام میشود.