Auf der Lithografieebene legt das Backprofil – also die Art des „Weichbackens“ oder „Hartbackens“ – den Ton für die Kontrolle der kritischen Abmessungen sowie für die Form des Fotoleiters. Eine Schwankung von 5°C in der Heizzone führt dazu, dass die Qualität der Ätzschicht beeinträchtigt wird. Wir haben eine Infrarotheizlampe für Halbleiter entwickelt, um diese Unregelmäßigkeiten auszuschließen.
Was technisch wichtig ist: Es handelt sich um Kurzwell-Infrarotlicht – daher erfolgt die Reaktion sehr schnell, innerhalb weniger Sekunden. So wird Energie präzise direkt auf den Wafer übertragen. Die Homogenität auf der Waferoberfläche bleibt bei ±0,1°C – das sorgt dafür, dass das Backen immer wieder reproduzierbar bleibt. Die Lampe arbeitet reibungslos, ohne Partikel, und eignet sich perfekt für Reinräume der Klassen 1–100. Was die Betriebszeit angeht, so bleibt die Leistung rund um die Uhr konstant; die Geräte können mehr als 5.000 Stunden lang betrieben werden, ohne dass es zu Abweichungen von mehr als 5% kommt.
Warum es in echten Prozessen geeignet ist: Die Lampe kann direkt in die Lithografieanlage oder in eine separate Backstation eingebaut werden. Sie ersetzt die herkömmlichen Systeme, bei denen es zu Temperaturschwankungen kommt – solche Schwankungen führen dazu, dass sich im Fotoleiter Strukturen bilden. Dadurch bleibt das Profil des Fotoleiters erhalten, was wiederum dazu führt, dass die Ätzeffekte effektiver sind und Defekte reduziert werden. Die schnelle thermische Reaktion verkürzt außerdem die Prozesszeit, was wiederum die Kosten pro Wafer senkt und die Produktivität erhöht.
Was man beachten muss: Für die Installation ist eine stabile Stromversorgung sowie eine gute Wärmeableitung notwendig, damit die Homogenität gewährleistet bleibt. Die Lampe selbst hält dem Stress stand, doch die Quarzkapsel muss bei der Wartung vorsichtig behandelt werden. Planen Sie die Austauscharbeiten während der geplanten Stillstandszeiten des Reinraums ein, damit es zu keinen unplanmäßigen Ausfällen kommt. Auf diese Weise bleibt der Prozess kontrollierbar, Zyklus für Zyklus.